Графики Ментора и Прикладные Материалы Объявляют Важный Основной Этап Работ

Published on September 14, 2009 at 9:28 AM

Ментор Графики Корпорация (NASDAQ: MENT) и Прикладной Материалы, Inc. (NASDAQ: AMAT) сегодня объявило важный основной этап работ в принятии открытых форматов данных для изготавливания маски. Первое раскрытие объема продукции нового формата OASIS.MASK (SEMI стандартного P44) было выполнено на системах контроля маски Applied's выдвинутых Aera2™ используя технологию ПО подготовки данным по маски Графиков Ментора. Новый формат значительно упрощает задачу создавать сложные, высококачественные photomasks которые существены к изготовляя полупроводниковым устройствам на 32nm и под узлами технологии.

OASIS.MASK (Открытый Стандарт Взаимообмена Системы Художественного произведения для Photomasks) формат взаимообмена открытого стандарта используемый для того чтобы представить и выразить медицинский осмотр обломока ровные и данные по плана маски. Формат OASIS.MASK уменьшает размер архивов данных маски приблизительно на половин, исключая bottleneck передачи файлов между вспомогательными программами и технологическим оборудованием маски - ключевой выгодой с сегодняшними размерами файла близко-терабайта. По Мере Того Как открытый интерфейс, оно позволяет такой же архив данных быть использованным для поколения, метрологии и осмотра картины, упрощая подачи процесса производства маски путем исключать сложные шаги преобразования формата.

«Мы работаем с Графиками Ментора, руководитель в принятии стандартов ОАЗИСА, улучшить эффективность вверх и вниз маск-делая смысловой цепочки путем ободрять принятие открытых стандартов,» сказал St. Дэннис, старший вице-президент и генеральный директор Tom Группы Систем Кремния Applied's. «Путем включать формат OASIS.MASK в наших системах Aera2, мы можем продолжать обеспечить самое конкурсное, самое высокое объём, разрешения осмотра плашк-к-базы данных для наших самых предварительных клиентов.»

«Прикладное решение Материалов для того чтобы снабдить OASIS.MASK в их продуктах показывает значение формата данных маски ОАЗИСА,» сказал Иосиф Sawicki, недостаток - президент и генеральный директор для разделения Конструкци-к-Кремния на Графиках Ментора. «Опыт Ментора с ОАЗИСОМ идет назад к развитию первоначально формата ОАЗИСА (SEMI стандартного P39), поэтому включать нашу технологию в Aera2 был логически выдвижением наших усилий продукта. Польза OASIS.MASK для изготавливания маски полно поддержана платформой Calibre® в Калибре FRACTUREv™, Калибре MDPverify™, и продуктах MDPview™ Калибра, которые все доступное сегодня.»

Прикладной и Менторы витрина их pioneering раскрытие OASIS.MASK в промышленной среде на Photomask 2009 SPIE, симпозиум маск-делая индустрии премьер-министр технический, будет держаться 14-ое-17 сентября в Монтерей, Калифорнии.

Прикладной Материалы, Inc. (NASDAQ: AMAT) глобальный руководитель в разрешениях Nanomanufacturing Technology™ с обширным портфолио новаторского оборудования, обслуживания и продуктов программного обеспечения для изготовления обломоков полупроводника, плоских экранов, солнечных фотогальванических элементов, гибкой электроники и стекла энергии эффективного. На Прикладных Материалах, мы прикладываем Технологию Nanomanufacturing для того чтобы улучшить людей путя в реальном маштабе времени.

Last Update: 13. January 2012 19:05

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit