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辅导者图象和应用的材料宣布重要重要事件

Published on September 14, 2009 at 9:28 AM

Mentor Graphics Corporation (那斯达克:MENT) 和 Applied Materials, Inc. (那斯达克:AMAT) 今天宣布了在开放数据格式的采用的一个重要重要事件屏蔽制造的。 新的 OASIS.MASK (半标准 P44) 使用辅导者图象的屏蔽数据准备软件技术,格式的第一批量生产配置在应用的 Aera2™提前的屏蔽检查系统进行了。 新的格式非常地简化创建对制造的半导体设备是重要的在 32nm 和在技术节点下的复杂,高保真度的光掩膜任务。

OASIS.MASK (光掩膜的开放艺术品系统互换标准) 是用于的一个开放标准互换格式表示和表示筹码级别实际和屏蔽格式数据。 OASIS.MASK 格式减少屏蔽数据文件的范围按大约二分之一,消灭文件传输瓶颈在软件工具和屏蔽制造器材 - 与今天近太字节文件大小的关键利益之间。 一个开放界面,它使同一数据文件为模式生成、计量学和检验使用,简化屏蔽制造过程流通过消灭复杂格式转换步骤。

“我们与辅导者图象一起使用,在绿洲标准的采用的一位领导先锋,改进效率在屏蔽做价值链上下经过鼓励开放标准的采用”,总经理说汤姆 St. 丹尼斯、资深副总裁和应用的硅系统组。 “通过合并在我们的 Aera2 系统的 OASIS.MASK 格式,我们可以继续提供这个最竞争,最高的处理量,彀子对数据库我们最先进的客户的检验解决方法”。

“适用材料的决策实施在他们的产品显示的 OASIS.MASK 绿洲屏蔽数据格式的值”,总经理说约瑟夫 Sawicki,和设计对硅部门副总裁在辅导者图象。 “与绿洲的辅导者的经验回到原始绿洲格式 (半标准 P39) 的发展,因此合并我们的技术到 Aera2 里是我们的产品工作成绩一个逻辑扩展名。 使用屏蔽制造的 OASIS.MASK 由在口径 FRACTUREv™,口径 MDPverify™和口径 MDPview™产品的 Calibre® 平台充分支持,是全部可用的今天”。

应用和辅导者在蒙特里在一个生产环境里将陈列他们 OASIS.MASK 的作早期工作在的配置在 SPIE 光掩膜 2009年,屏蔽做行业的首要的技术讨论会,被暂挂 9月 14-17,加利福尼亚。

Applied Materials, Inc. (那斯达克:AMAT) 是在 Nanomanufacturing Technology™解决方法的全球领导先锋与创新设备一个清楚的投资组合,半导体筹码的制造的服务和软件产品,平板显示器、太阳光电池、灵活的电子和省能源的玻璃。 在应用的材料,我们适用 Nanomanufacturing 技术改进活方式的人员。

Last Update: 13. January 2012 13:14

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