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Mentor Graphics公司和應用材料公司宣布重要的里程碑

Published on September 14, 2009 at 9:28 AM

Mentor Graphics公司(納斯達克:MENT)和應用材料公司(納斯達克股票代碼:AMAT)今天宣布,通過開放的數據格式光罩製造的重要里程碑。第一冊新OASIS.MASK的生產部署(SEMI標準 P44的)格式進行應用 Aera2™先進的光罩檢測系統採用 Mentor Graphics的掩模數據準備軟件技術。新格式大大簡化了創建複雜的,高保真的光掩膜,在32nm及以下技術節點製造半導體器件的關鍵任務。

OASIS.MASK(光罩打開藝術品系統交換標準)是一個開放的標準交換格式,用於代表和表達芯片級物理和版圖數據。 OASIS.MASK格式掩模數據文件的大小減少了大約一半,消除了軟件工具和光罩製造設備之間的文件傳輸瓶頸 - 今天的近TB的文件大小的一個關鍵的好處。作為一個開放的接口,使數據文件相同的模式產生,測量和檢測,消除複雜的格式轉換步驟,簡化光罩製造流程流。

“我們正在與 Mentor Graphics公司,在通過 OASIS標準的領導者,以提高效率高達面具鼓勵採用開放標準的價值鏈,”湯姆說,聖丹尼斯,高級副總裁兼總經理應用材料公司矽系統集團。 “通過整合在我們的Aera2系統 OASIS.MASK格式,我們可以繼續提供最有競爭力的,高通量,死到數據庫的檢測解決方案,為我們最先進的的客戶。”

“應用材料公司決定在其產品 OASIS.MASK顯示綠洲掩模數據格式的值,​​”約瑟夫說 Sawicki,Mentor Graphics公司副總裁和總經理從設計到矽分工。 “Mentor的經驗與 OASIS追溯到原OASIS格式(SEMI標準 P39)的發展,使納入 Aera2我們的技術我們的產品努力是合乎邏輯的延伸。使用光掩膜製造的OASIS.MASK是完全支持的Calibre ®平台的Calibre FRACTUREv™™口徑 MDPverify,口徑 MDPview™產品,這是所有可用的今天。“

應用和Mentor將展示他們的開拓 OASIS.MASK部署,在2009年在光學學報光掩膜的生產環境光罩製造行業首屈一指的技術研討會,將於 9月14-17日在加利福尼亞州蒙特雷。

應用材料公司(納斯達克股票代碼:AMAT)是全球領先的納米技術™解決方案的廣泛產品組合的創新設備,服務和軟件產品,用於製造半導體芯片,平板顯示器,太陽能光伏電池,柔性電子產品和能源高效玻璃。在應用材料公司用納米製造技術改善人們的生活。

Last Update: 15. October 2011 07:41

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