KLA-Tencor Introduce Teron 600 Sistemas de Inspección del Defecto del Retículo

Published on September 14, 2009 at 8:01 PM

Hoy KLA-Tencor Corporation (NASDAQ: KLAC), el surtidor de cabeza del mundo del mando de proceso y las soluciones de la administración del rendimiento para el semiconductor y las industrias relacionadas, introdujeron el Teron los sistemas de inspección del defecto del retículo de 600 Series (máscara). Dirigiendo una transición importante en diseño de la máscara en el nodo de la lógica 2Xnm (memoria del mitad-tono 3Xnm), la nueva plataforma de Teron 600 introducirá capacidad programable de la analizador-iluminación y ofrecerá mejorías importantes en la sensibilidad y la potencia de cómputo sobre la plataforma actual del estándar industrial, TeraScanTMXR de la litografía. Estos avances son necesarios activar el revelado y la fabricación de los retículos innovadores que distinguen el nodo 2Xnm.

Nuevo Teron de KLA-Tencor 600 innovaciones de las características de la plataforma del examen del defecto del retículo en proyección de imagen y litografía de cómputo, permitiendo a fabricantes de la máscara desarrollar y producir los retículos para utilizar la gran variedad de tecnologías propuestas de la litografía 2Xnm. (Foto: Business Wire)

Los proyectistas de la máscara han comenzado Tradicionalmente con un modelo de máscara que parece el modelo del fulminante de la meta, haciendo pequeños ajustes a las características de la máscara (las correcciones ópticas de la proximidad u OPC) hasta que se logren las estructuras deseadas del fulminante. Esta aproximación comienza a analizar en el nodo 2Xnm, como consecuencia de ampliar la litografía 193nm en un régimen extremo de la sub-longitud de onda. Así, en el nodo 2Xnm, las técnicas de cómputo de la litografía tales como Tecnología Inversa de la Litografía (ILT) y la Optimización de la Máscara de la Fuente (SMO) llegan a ser viables. ILT genera típicamente un modelo de máscara complejo con un enorme número de características muy pequeñas, haciendo la máscara difícil fabricar. Para complicar materias incluso fomente, Optimización de la Máscara de la Fuente (SMO) implica el calcular de un perfil no uniforme de la intensidad para la fuente del analizador. Ese perfil se diseña para trabajar así como la máscara de ILT para entregar los resultados litográficos óptimos en el fulminante.

“El cambio espectacular en la estrategia del retículo para la generación del dispositivo 2Xnm ha creado una descontinuidad en el examen del defecto del retículo,” Brian comentado Haas, vicepresidente y director general del Retículo y de la División del Examen del Photomask en KLA-Tencor. “Las características del retículo son mucho más pequeñas que usted prediría de un 3Xnm al encogimiento 2Xnm. Además, el modelo de máscara se fractura tan que es no más posible para que un representante técnico observe la ubicación de un defecto del retículo y decida a si es probable imprimir en fulminante-y potencialmente causar una baja catastrófica del rendimiento en el fabuloso. Para el nodo 2Xnm, debemos poder entrar un perfil de encargo de la iluminación del analizador, tenemos en cuenta efectos de polarización y la fotoprotección, y riguroso calculamos el impacto del defecto del retículo en el fulminante. El Teron 600 leverages la fuerza de KLA-Tencor en litografía de cómputo y nuestra experiencia de desarrollar y de fabricar seis generaciones de plataformas del examen del retículo. Como consecuencia es un sistema de inspección extremadamente de alta resolución, de poco ruido del retículo, equipado para los nuevos retos 2Xnm. Es un logro grande para KLA-Tencor que creamos estemos activando enormemente para nuestros clientes y la industria.”

La plataforma de Teron 600 también se ha diseñado para la adaptabilidad y el extendibility. El sistema ha revisado con éxito los retículos del prototipo creados para ILT/SMO, la litografía doble-que modelaba (DPL), y EUV (las máscaras y los espacios en blanco). El sistema se dirige para ser extensible a las soluciones ópticas del potencial 1Xnm. Por Otra Parte, el Teron 600 Series puede trabajar con TeraScan de KLA-Tencor los sistemas de inspección del defecto del retículo de 500 Series en una estrategia del mezcla-y-emparejamiento, proporcionar a una solución de poco costo para los conjuntos de fabricación del photomask que incluyen capas críticas y no críticas.

El nuevo Teron los sistemas de inspección del defecto del retículo de 600 Series incluirá varias características diseñadas para activar la producción de máscaras ópticas avanzadas y el revelado de las máscaras de EUV, incluyendo:

  • Nueva longitud de onda 193nm, un pixel más pequeño, tratamiento de la imagen mejorado y operación ultrabaja del ruido para proporcionar al examen de alta resolución del avión del retículo (RPI);
  • modos operatorios de la Dado-a-Base de datos y del dado-a-dado, activando captura del defecto en el dado y en una amplia gama de planes del retículo;
  • el examen del Fulminante-Avión (WPI) para la predicción de la imprimibilidad del defecto del retículo, termina con formación de umbrales de la fotoprotección y el modelado de la difracción de la sub-longitud de onda y de los efectos de polarización;
  • Nuevo modelo utilizador-configurable de la iluminación del analizador, activando la predicción de la imprimibilidad del defecto del retículo cuando se ejecuta el SMO, el ILT o la otra geometría anticonvencional de la iluminación del analizador;
  • filtración del Antena-Avión de los defectos de la molestia, facilitando el revelado de proceso temprano y una duración de ciclo más rápida durante la producción de la máscara; y
  • Compatibilidad entre las plataformas de Teron y de TeraScan, para la optimización de la capacidad y la integración de datos efectiva de capas críticas y no críticas.

Para más información sobre cómo el Teron los sistemas de inspección del defecto del retículo de 600 Series permite a fabricantes del photomask producir y expidir máscaras libere de defectos imprimibles en el nodo 2Xnm, visite por favor el Web page del producto en: http://www.kla-tencor.com/reticle/teron-600.html.

Last Update: 13. January 2012 17:03

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