KLA-Tencor Introduit Teron 600 Systèmes de Contrôle de Défaut de Réticule

Published on September 14, 2009 at 8:01 PM

Aujourd'hui KLA-Tencor Corporation (NASDAQ : KLAC), le fournisseur principal mondial du contrôle du processus et les solutions de management de rendement pour le semi-conducteur et les industries relatives, ont introduit le Teron des systèmes de contrôle de défaut de réticule de 600 Séries (masque). Adressant un passage important dans le design de masque au noeud de la logique 2Xnm (mémoire de moitié-hauteur de son 3Xnm), la plate-forme neuve de Teron 600 introduira la capacité programmable de balayeur-illumination et offrira des importantes améliorations dans la sensibilité et l'alimentation électrique de calcul de lithographie au-dessus de la plate-forme industriellement compatible actuelle, TeraScanTMXR. Ces avances sont nécessaires pour activer le développement et la fabrication des réticules novateurs qui discernent le noeud 2Xnm.

Teron neuf de KLA-Tencor 600 innovations de caractéristiques techniques de plate-forme d'inspection de défaut de réticule en représentation et lithographie de calcul, permettant à des constructeurs de masque de développer et produire des réticules pour supporter la large variété de technologies proposées de la lithographie 2Xnm. (Photo : Business Wire)

Traditionnellement les créateurs de masque ont commencé par une configuration de masque qui ressemble à la configuration de disque d'objectif, effectuant de petits réglages aux caractéristiques techniques de masque (les corrections optiques de proximité ou l'OPC) jusqu'à ce que les structures désirées de disque soient réalisées. Cet élan commence à décomposer au noeud 2Xnm, par suite d'étendre la lithographie 193nm en régime extrême de sous-longueur d'onde. Ainsi, au noeud 2Xnm, les techniques de calcul de lithographie telles que la Technologie Inverse de Lithographie (ILT) et l'Optimisation de Masque de Source (SMO) deviennent viables. ILT produit type d'une configuration de masque complexe avec énormément de petites configurations mêmes, rendant le masque difficile à fabriquer. Pour compliquer des sujets promouvez même, Optimisation de Masque de Source (SMO) concerne prévoir un profil non-uniforme d'intensité pour la source de balayeur. Ce profil est conçu pour collaborer avec le masque d'ILT pour fournir les résultats lithographiques optima sur le disque.

« Le changement spectaculaire dans la stratégie de réticule pour le rétablissement du dispositif 2Xnm a produit une discontinuité dans l'inspection de défaut de réticule, » Brian Haas marqué à nouveau, vice président et directeur général du Réticule et de la Division d'Inspection de Photomask chez KLA-Tencor. « Les caractéristiques techniques de réticule sont beaucoup plus petites que vous prévoiriez d'un 3Xnm au rétrécissement 2Xnm. De plus, on rompt ainsi la configuration de masque qu'il n'est plus faisable pour qu'un ingénieur regarde l'emplacement d'un défaut de réticule et de décide s'il est susceptible d'estamper sur disque-et d'entraîner potentiellement une perte catastrophique de rendement dans l'ouvrier. Pour le noeud 2Xnm, nous devons pouvoir entrer un profil fait sur commande d'illumination de balayeur, tenons compte des effets de polarisation et du vernis photosensible, et prévoyons rigoureusement l'incidence du défaut de réticule sur le disque. Le Teron 600 influence la force de KLA-Tencor en lithographie de calcul et notre expérience de développer et de fabriquer six rétablissements des plates-formes d'inspection de réticule. En conséquence c'est un système de contrôle extrêmement à haute résolution et à faible bruit de réticule, équipé pour les défis 2Xnm neufs. C'est un grand accomplissement pour KLA-Tencor que nous croyons activerons énormément pour nos abonnées et l'industrie. »

La plate-forme de Teron 600 a été également conçue pour la souplesse et l'extendibility. Le système a avec succès examiné des réticules de prototype produits pour assurer ILT/SMO, lithographie de double-structuration (DPL), et EUV (des masques et des blancs). Le système est conçu pour être sujet à saisie aux solutions optiques du potentiel 1Xnm. D'ailleurs, le Teron 600 Séries peut fonctionner avec TeraScan de KLA-Tencor des systèmes de contrôle de défaut de réticule de 500 Séries dans une stratégie de mélange-et-correspondance, pour fournir une solution à coût efficace pour les positionnements de fabrication de photomask qui comprennent des couches critiques et non critiques.

Le Teron neuf des systèmes de contrôle de défaut de réticule de 600 Séries comprendra plusieurs caractéristiques techniques conçues pour activer la production des masques optiques avancés et le développement des masques d'EUV, comprenant :

  • Longueur d'onde 193nm Neuve, plus petit pixel, fonctionnement à traitement d'images et très réduit amélioré de bruit pour fournir l'inspection à haute résolution de plan de réticule (RPI) ;
  • modes opérationnels de Matrice-à-Base de données et de matrice-à-matrice, activant la capture de défaut dans toute la matrice et sur une large gamme de dispositions de réticule ;
  • l'inspection de Disque-Plan (WPI) pour la prévision de l'imprimabilité de défaut de réticule, remplissent le seuillage de vernis photosensible et la modélisation de la diffraction de sous-longueur d'onde et des effets de polarisation ;
  • Modèle utilisateur-configurable Neuf d'illumination de balayeur, activant la prévision de l'imprimabilité de défaut de réticule quand SMO, ILT ou toute autre géométrie non standard d'illumination de balayeur est mis en application ;
  • filtrage d'Aérien-Plan des défauts de gêne, facilitant le développement de processus précoce et le temps de cycle plus rapide pendant la production de masque ; et
  • Compatibilité entre les plates-formes de Teron et de TeraScan, pour l'optimisation de capacité et l'intégration des données pertinente des couches critiques et non critiques.

Pour plus d'informations sur la façon dont le Teron des systèmes de contrôle de défaut de réticule de 600 Séries permettent à des constructeurs de photomask de produire et expédier des masques librement des défauts imprimables au noeud 2Xnm, visitez s'il vous plaît la page Web de produit à : http://www.kla-tencor.com/reticle/teron-600.html.

Last Update: 13. January 2012 18:06

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