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KLA-Tencor 介绍 Teron 600 个调制盘缺陷检查系统

Published on September 14, 2009 at 8:01 PM

今天 KLA-Tencor Corporation (那斯达克:KLAC),程序控制和产量管理解决方法的领先世界的供应商半导体和相关行业的,介绍 Teron 600 系列调制盘 (屏蔽) 缺陷检查系统。 解决在屏蔽设计的一个主要转移在 2Xnm 逻辑 (3Xnm 半间距内存) 节点,新的 Teron 600 平台将引入可编程序的扫描程序照明功能并且提供在区分和计算石版印刷功率在当前工业标准平台, TeraScanTMXR 的重大的改善。 这些预付款是必要启用区分这个 2Xnm 节点创新调制盘的发展和制造。

KLA-Tencor 的新的 Teron 600 调制盘缺陷检验平台功能创新在想象和计算石版印刷方面,使屏蔽制造商发展和生产调制盘支持提出的 2Xnm 石版印刷技术多种多样。 (照片: 企业电汇)

传统上屏蔽设计员从看起来象目标薄酥饼模式,做小的调整对屏蔽功能的掩模图案开始了 (光学接近度更正或 OPC),直到期望薄酥饼结构达到。 此途径开始划分在这个 2Xnm 节点,作为扩大 193nm 石版印刷结果为一个极其子波长政权。 因此,在这个 2Xnm 节点,计算石版印刷技术例如倒数石版印刷技术 (ILT)和来源屏蔽优化 (SMO)变得可行。 ILT 典型地生成与巨大数字非常小的功能的一个复杂掩模图案,使屏蔽难制造。 要复杂化事态甚而请促进,来源屏蔽优化 (SMO)介入计算扫描程序来源的一个不均匀的强度配置文件。 该配置文件被设计与 ILT 屏蔽一起运作实现在薄酥饼的最佳平版印刷的结果。

“在调制盘方法的剧烈的变动 2Xnm 设备生成的在调制盘缺陷检验创建了间断性”,陈述的布赖恩 Haas,副总统和总经理调制盘和光掩膜检验分部在 KLA-Tencor。 “调制盘功能小于您从 3Xnm 会预测给 2Xnm 收缩。 另外,不再是可行的为了工程师能查看调制盘缺陷地点和决定的掩模图案很破裂打印在薄酥饼和可能地导致灾难产量损失在很好是否可能的。 对这个 2Xnm 节点,我们一定能输入一个自定义扫描程序照明配置文件,考虑到偏振效应和光致抗蚀剂和严谨地计算调制盘缺陷的影响对这个薄酥饼。 Teron 600 在计算石版印刷方面利用 KLA-Tencor 的力量和我们的从开发和制造调制盘检验平台的六生成的经验。 结果它是一个非常高分辨率,低噪声调制盘检查系统,装备为新的 2Xnm 挑战。 它是我们相信为我们的客户和这个行业非常地启用的 KLA-Tencor 的一个大成绩”。

Teron 600 平台为灵活性和 extendibility 也设计。 这个系统顺利地检查了被创建的还原调制盘 ILT/SMO、二重仿造的石版印刷 (DPL)和 EUV (屏蔽和空白)。 这个系统被设计是可伸长对潜在 1Xnm 光学解决方法。 而且, Teron 600 系列可能与 KLA-Tencor 的 TeraScan 一起使用 500 系列调制盘缺陷在混合搭配方法的检查系统,为包括重要和不重要的层的制造的光掩膜集提供一个有效解决方法。

新的 Teron 600 系列调制盘缺陷检查系统将包括被设计的几个功能启用先进的光学屏蔽的 EUV 屏蔽的生产和发展,包括:

  • 新的 193nm 波长、更小的象素,提供高分辨率调制盘飞机检验的被改进的图象处理和极端底的噪声运算 (RPI);
  • 彀子对数据库和彀子对彀子操作方式,启用缺陷获取在彀子中和在各种各样的调制盘格式;
  • 调制盘 (WPI)缺陷可印刷性的预测的薄酥饼飞机检验,完成与光致抗蚀剂阈值化和塑造子波长衍射和偏振效应;
  • 新的用户可配置扫描程序照明设计,启用调制盘缺陷可印刷性的预测,当 SMO、 ILT 或者其他非标准扫描程序照明几何被实施;
  • 空中飞机过滤讨厌缺陷,实现早期的工艺过程开发和更加快速的循环时间在屏蔽生产时; 并且
  • 在 Teron 和 TeraScan 平台之间的兼容性,能力优化和有效数据集成的从重要和不重要的层的。

关于 Teron 600 系列调制盘缺陷检查系统如何的更多信息使光掩膜制造商从可打印的缺陷任意导致和发运屏蔽在这个 2Xnm 节点,请参观产品网页在: http://www.kla-tencor.com/reticle/teron-600.html。

Last Update: 13. January 2012 13:14

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