Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

De Levering van Eerste Optisch Systeem van Carl Zeiss Sluit zich aan bij Lijst van Positief Nieuws Over Lithografie EUV

Published on September 16, 2009 at 8:27 AM

Carl Zeiss, de belangrijke fabrikant van de wereld van optische systemen voor spaandervervaardiging, heeft nu een volledig optisch systeem voor productie-klaar Extreme Ultraviolette Lithografie (EUVL), een nieuwe technologie voor microchipvervaardiging geleverd. Dit optische systeem vormt een kernmodule van het eerste EUVL productiesysteem van de Nederlandse fabrikant en de partner op lange termijn aan Carl Zeiss, ASML. Levering die van het volledige systeem EUVL, aan een tarief van 60 wafeltjes per uur de beginnen, wordt gepland in de tweede helft van 2010. Het is voorgenomen voor productie van microchips met structuren in waaier 20 Nanometer

„15 jaar geleden, lanceerden wij onderzoek en ontwikkeling van Lithografie EUV en hebben ver meer dan 100 miljoen Euro“ rapporten Dr. Peter Kürz, De Directeur van het euv- Programma in Carl Zeiss SMT in Oberkochen sedertdien geïnvesteerd. „Tot op heden, heeft ASML twee hulpmiddelen van de procesontwikkeling rond de bol geïnstalleerd. Nu is zijn gebruik in de volumeproductie van microchips binnen bereik.“

Deze technologie, voor de ontwikkeling waarvan Peter Kürz en zijn team voor de Toekomstige Toekenning van de Duitse Federale Voorzitter in 2007 werden benoemd, en die met een totaal van meer dan 20 miljoen euro zowel door het Duitse Ministerie van Onderwijs als Onderzoek en op een Europees niveau is gefinancierd, biedt potentieel op lange termijn voor aan de gang zijnde miniaturisatie van spaanderstructuren aan. Het werkt met een blootstellingsgolflengte van 13.5 nanometers-bijna 15 keer korter dan de 193 nanometertechnologie momenteel in gebruik. Dank aan deze korte blootstellingsgolflengte, het is mogelijk om de grootte van spaanderstructuren te verminderen en hun verpakkingsdichtheid te verhogen.

ASML heeft reeds vijf orden voor het EUVL productiesysteem ontvangen, met leveringen die in 2010 beginnen. „Onze recente successen zijn belangrijke mijlpalen die aantonen dat EUVL uitstekende vooruitgang als rendabele één enkele het vormen technologie boekt. EUVL heeft de resolutiebevoegdheid om de wet van Moore voorbij het volgende decennium te dragen,“ zegt Christian Wagner, de Hogere Manager van het Product bij ASML.

Ander positief die nieuws betreffende de ontwikkeling van EUVL tijdens de afgelopen weken wordt gepubliceerd rechtvaardigt optimisme. Het Belgische instituut IMEC (Leuven), bijvoorbeeld, rapporteerde onlangs over de succesvolle productie van 22 die cellen van nanometerSRAM gebruikend het EUV hulpmiddel van de procesontwikkeling in zijn faciliteit wordt geïnstalleerd. Vergeleken bij de vorige technologieknoop, resulteerde dit in een 44% vermindering van spaanderoppervlakte gebied-en daarom in het potentiële halveren van productiekosten. De fabrikant van laserstraal lichtbronnen voor lithografie, het US-based bedrijf Cymer, leverde onlangs de eerste bron voor integratie in de productiesystemen van ASML EUVL gepast in 2010.

Technologie

In lithografie, worden het kernproces in spaandervervaardiging wordt gebruikt, de specifieke patronen voor kringen, de transistors en de condensatoren optisch overgebracht van een masker aan het wafeltje dat. Met deze bedoeling, zijn een verlichtingssysteem en een projectiesysteem geïntegreerd in een wafeltjescanner. Korter de golflengte van het licht voor lithografie wordt gebruikt, fijner de patronen dat die met het kunnen worden veroorzaakt. Het Licht met een uiterst korte golflengte van 13.5 nanometers wordt gebruikt voor Lithografie EUV. De optica van de Verlichting en van de projectie bestaat daarom uit opeenvolgend geschikt verscheidene, ingewikkeld gevormde spiegels in plaats van de tot nu toe normaal gebruikte lenzen. De bereikte resolutie laat hoge spaanderverpakking toe dichtheid-en daarom hogere spaanderprestaties. De Lithografie EUV biedt het potentieel van het voortzetten van het miniaturisatieproces dat aan praktisch sinds de uitvinding van geïntegreerde schakelingen voor minstens een ander decennium-en daarom van het ontwikkelen van microchips met prestatiesniveaus heeft plaatsgevonden die vandaag onvoorstelbaar zijn.

Last Update: 13. January 2012 18:45

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit