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A Entrega do Primeiro Sistema Óptico de Carl Zeiss Junta-se à Lista de Notícia Positiva Sobre a Litografia de EUV

Published on September 16, 2009 at 8:27 AM

Carl Zeiss, fabricante principal do mundo dos sistemas ópticos para a fabricação da microplaqueta, tem entregado agora um sistema óptico completo para a Litografia Ultravioleta Extrema produção-pronta (EUVL), uma nova tecnologia para a fabricação do microchip. Este sistema óptico forma um módulo do núcleo do primeiro sistema de produção de EUVL do fabricante Holandês e do sócio a longo prazo a Carl Zeiss, ASML. A Entrega do sistema completo de EUVL, começando a uma taxa de 60 bolachas pela hora, é planeada na segunda metade de 2010. Pretende-se para a produção de microchip com estruturas na escala de 20 Nanômetros

“15 anos há, nós lançamos a investigação e desenvolvimento da Litografia de EUV e investimo-la distante além de 100 milhão Euros desde então,” Dr. Peter Kürz dos relatórios, Director de Programa de EUV em Carl Zeiss SMT em Oberkochen. “Até agora, ASML instalou duas ferramentas de revelação do processo ao redor do mundo. Agora seu uso na produção de volume de microchip está dentro do alcance.”

Esta tecnologia, para a revelação de que Peter Kürz e sua equipe foi nomeado para a Concessão Futura do Presidente Federal Alemão em 2007, e que foi financiada com um total sobre de 20 milhão euro pelo Ministério da Educação e pela Pesquisa Alemães e em um Nível europeu, oferece o potencial a longo prazo para miniaturização em curso de estruturas da microplaqueta. Opera-se com um comprimento de onda da exposição de 13,5 nanômetros-quase 15 vezes mais curtos do que a tecnologia de 193 nanômetros actualmente em uso. Agradecimentos a este comprimento de onda da exposição curto, é possível reduzir o tamanho de estruturas da microplaqueta e aumentar sua densidade de embalagem.

ASML tem recebido já cinco pedidos para o sistema de produção de EUVL, com as entregas que começam em 2010. “Nossos sucessos recentes são os marcos miliários importantes que mostram que EUVL está fazendo o progresso excelente como uma única tecnologia de modelação eficaz na redução de custos. EUVL tem a potência da definição levar a lei de Moore além da próxima década,” diz o Cristão Wagner, Director de Produto Superior em ASML.

Outras notícias positivas a respeito da revelação de EUVL publicado durante o passado poucas semanas justificam o optimismo. O instituto do Belga IMEC (Lovaina), por exemplo, relatado recentemente sobre a produção bem sucedida de 22 pilhas do nanômetro SRAM que usam o EUV processa a ferramenta de revelação instalada em sua facilidade. Comparado ao nó precedente da tecnologia, isto conduziu a uma redução a 44% na superfície da microplaqueta área-e conseqüentemente em partir-se ao meio potencial de custos de gastos de fabricação. O fabricante de fontes luminosas do raio laser para a litografia, empresa Estabelecida nos Estados Unidos Cymer, entregou recentemente a primeira fonte para a integração nos sistemas de produção do EUVL de ASML devidos em 2010.

Tecnologia

Na litografia, o processo do núcleo usado na fabricação da microplaqueta, os testes padrões do específico para circuitos, os transistor e os capacitores são transferidos óptica de uma máscara à bolacha. Com esta finalidade, um sistema de iluminação e um sistema de projecção são integrados em um varredor da bolacha. Mais curto o comprimento de onda da luz usada para a litografia, mais finos os testes padrões que pode ser produzido com ela. A Luz com um comprimento de onda extremamente curto de 13,5 nanômetros é usada para a Litografia de EUV. Os sistemas óticos da Iluminação e da projecção consistem conseqüentemente em diversos arranjados sequencialmente, espelhos intrincada dados forma em vez das lentes usadas normalmente até aqui. A definição conseguida permite a embalagem da microplaqueta densidade-e conseqüentemente mais altamente o desempenho altos da microplaqueta. A Litografia de EUV oferece o potencial de continuar o processo da miniaturização que ocorreu praticamente desde a invenção dos circuitos integrados no mínimo outros década-e conseqüentemente dos microchip tornando-se com níveis de desempenho que são inconcebíveis hoje.

Last Update: 13. January 2012 16:18

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