Beneq Trazendo Tecnologia ALD para a Indústria de Vidro

Published on September 24, 2009 at 3:28 AM

Beneq , uma empresa que presta industrial e R + D equipamentos e tecnologia para revestimentos funcionais, traz a tecnologia ALD também para a indústria do vidro. Aqui, nanocoatings usando sistemas industriais Beneq de ALD são aplicadas para aumentar a resistência a rachaduras. Dr. Matti Putkonen, cientista sênior Beneq e professor da Helsinki University of Technology, apresentou seus resultados o trabalho de desenvolvimento da Sociedade de Vidro Technology Conference anual de 2009, em Lancaster, Reino Unido, em 17 de setembro de 2009.

O vidro é um material muito forte, mas microfissuras perto das bordas criar pontos fracos, onde a quebra de vidro geralmente começa. ALD revestimento preenche essas rachaduras em nanoescala e melhora significativamente a resistência do vidro. Este aumento da resistência a rachaduras é avaliado altamente especialmente no display, película fina de células solares, vidros arquitetônicos e aplicações à base de vidro sensor. No teste, filmes muito finos ALD foram depositados sobre substratos de vidro pequeno, e os maiores, de até 1200 x 1200 mm2. Lotes de peças menores foram revestidas com o TFS Beneq sistema de ALD 500, enquanto que amostras maiores foram avaliados com o P400A, P800 e TFS 1200 sistemas. De acordo com o ponto quatro testes de flexão, uma melhora significativa em rachar força foi obtido por meio desses revestimentos ALD.

Beneq Oy, com sede em Vantaa, na Finlândia, é um fornecedor de equipamentos industriais e tecnologia para os mercados globais. Beneq é transformar inovações em sucesso, proporcionando nanotecnologia permitiu aplicações de revestimento funcional para os campos de energia de tecnologia limpa e renovável, especialmente em vidro, a energia fotovoltaica, mercados emergentes e filmes finos. Beneq soluções são baseadas em Atomic Layer Deposition (ALD) e de propriedade atmosféricas nHALO ® e tecnologias de revestimento nAEROTM aerosol.

Last Update: 10. October 2011 06:21

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