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EAW und Quarz LVS der Quarz des Magmas Ordnen die Plattformen an, die für TSMC 180 Verfahrenstechniken nm Erhältlich sind

Published on September 29, 2009 at 9:22 AM

Magma (R) Design Automation Inc. (Nasdaq: LAVA), ein Anbieter von Chip-Entwurf Software, heute angekündigt, dass Quarz (TM) EAW- und QuarzLVS Regelplattformen für TSMC 180 Verfahrenstechniken des nm (nm) erhältlich sind. Mit diesem Zusatz können Designer 40 65 nm, 90 nm, 130 nm und 180 nm-Regel Plattformen nm, für Quarz EAW und Quarz LVS jetzt fernladen von der TSMC-Online Website (INSPEKTION).

„Wir haben mit EAW und Quarz LVS der Quarz des Magmas für hoch entwickelte Prozessknotenpunkte für einige Jahre gearbeitet und haben ihre Genauigkeit unter Verwendung der gleichen rigorosen Testverfahren geprüft, die wir für allen EAW verwenden und LVS-Hilfsmittel,“ sagte Tom Quan, stellvertretender Direktor des Dienstleistung- Im DesignbereichMarketings bei TSMC. „In Erwiderung auf Kundennachfrage, haben wir jetzt Halterung für Quarz EAW und Quarz LVS erweitert, um 180 nm zu enthalten.“

Quarz EAW und Quarz LVS architected, um Auslegungen der integrierten Schaltung (IS) jeder möglicher Größe, an irgendeinem Technologieknotenpunkt, in der wenigen Dauer aufzubereiten. Des Magmas ist die erste wirklich ersteigbare körperliche Überprüfungslösung, fähig, Umlaufszeit zur Verfügung zu stellen, die bis zu einer Größenordnung schneller als vorhandene Lösungen ist. Die Quarzhilfsmittel sind völlig - mit aus dritter QuelleIS-Implementierungsflüssen kompatibel und können die Dateiformate lesen, die durch traditionelle körperliche Überprüfungshilfsmittel verwendet werden.

„TSMC ist ein Schlüsselgießereipartner mit Magma gewesen, und unsere gegenseitigen Abnehmer haben körperliche Überprüfungslösungen des Quarzes verwendet, um einiges vom größten heraus auf Band aufzunehmen, die meisten Angriffsabsichten in der Welt,“ sagte Anirudh Devgan, Generaldirektor des Magmas Kundenspezifisch anfertigen Unternehmenseinheit. „Viele IS werden noch in preiswerteren 180 nm-Prozessen eingeführt. Nun da TSMC 180 nm-Regelplattformen zur Verfügung gestellt hat, sind mehr Designer in der Lage, die Drehzahl und die Genauigkeit von Quarz EAW und von Quarz LVS wirksam einzusetzen.“

Last Update: 13. January 2012 17:28

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