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Ein Bemerkenswerter Stifter in der Auftauchenden Wiederbelebung der Halbleiter-Industrie

Published on September 29, 2009 at 10:47 AM

Oerlikon-Anlagen (SWX: OERL), ein führender Lieferant von PVD spritzen Anlagen, ist ein bemerkenswerter Stifter in der auftauchenden Wiederbelebung der Halbleiterindustrie. Während dieses laufenden Quartals haben Schlüsselhalbleiterhersteller in Taiwan und Südostasien Aufträge für zahlreiche 300mm vergeben, die ClusterLine PVD Hilfsmittel anstrebte den Verpackenmarkt spritzen.

„In dem letzten Jahr, das wir ein durchweg hochrangiges von Zinsen am CLUSTERLINE von vielen Herstellern auf der ganzen Welt genossen werden,“ erklärt Andreas-Dill, Kopf von Oerlikon-Anlagen. „Und die starke Welle von festen Ordnungen bestätigen, dass wir die rechten Produktionslösungen für die nächste Generation von Produkten haben und auch, dass unsere Industrie zeigt robuste Zeichen der Aktivität.“

Die Cluster-Hilfsmittelplattform CLUSTERLINE 300 ist speziell für das hoch entwickelte Verpacken bestimmt und Rückseitenaufdampfenanwendungen für Wafer sortiert bis 300mm. Die neuesten Aufträge, die mit Oerlikon-Anlagen vergeben werden - durch führende Verpackenkunden in Asien - sind für die Anlagen, die für die Produktion hoch entwickelten MEMS, der Leistung IS und der optoelektronischen Einheiten konfiguriert werden. Drei der vier Kunden sind festgelegte Oerlikon-Rechnungen und der weiter Kunde, ein erstmaliger Abnehmer, setzte sich in eine Ordnung, die einem wettbewerbsfähigen Kopf-an-Kopf- Auswahlverfahren folgt.

„Für Jahre, haben wir unsere Bemühungen in der Entwicklung fokussiert und Optimierung von innovativen Produktionslösungen für das Unterstoßaufdampfen (UBM), Wiederverteilungsschichten, Rückseitenaufdampfen und ultra dünnen Wafer, die aufbereiten,“ fügt Dill hinzu. „Unsere Verbesserung des dynamischen Prozesses in diesem 3. Generationsclusterhilfsmittel hat ergeben eine zuverlässige und in hohem Grade flexible Plattform mit hervorragender Kosteneffizienz - mit den bemerkenswert hohen Wafererträgen und der einfachen Operation.“

Last Update: 13. January 2012 17:28

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