Het Ritme Levert Prestaties en Integratie voor High-End de Ontwerpen van Soc die in de Geavanceerde Processen van TSMC worden Uitgevoerd

Published on September 29, 2009 at 7:46 PM

De Systemen van het Ontwerp van het Ritme, Inc. (NASDAQ: CDNS), vandaag kondigde de leider in globale elektronische ontwerpinnovatie, aan dat het Systeem van de Controle van het Ritme Fysieke de nieuwe interoperabele fysieke controleformaten voor 40 nanometerontwerpen heeft goedgekeurd, die uit iDRC voor ontwerpregel het controleren en iLVS voor lay-out versus schema bestaan controlerend, ontwikkeld door Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC). De steun van het Ritme van deze nieuwe formaten van TSMC bouwt op de eerder aangekondigde steun van de Extractie van het Ritme QRC Parasitische voor het formaat van het iRCXdossier. Deze combinatie fysieke controle en parasitische extractie en analysemogelijkheden verzekert de voortdurende beschikbaarheid van nauwkeurige en verenigbare productiegegevens om siliciumopbrengst voor de klanten van het Ritme te verbeteren gebruikend nanometerprocessen van TSMC.

IDRC en iLVS de formaten vergemakkelijken de geavanceerde van het ontwerpregel en apparaat extractiemogelijkheden noodzakelijk om de integriteit van ontwerpen te verzekeren die in de geavanceerde processen van TSMC worden uitgevoerd. Het Gebruiken van een gemeenschappelijke regelformaat verzekert nauwkeurigheid en verenigbare presentatie van resultaten ongeacht de fysieke controleoplossing die elke klant kiest.

Het „Ritme en TSMC hebben op iDRC, iLVS en iRCX samengewerkt om ervoor te zorgen dat de gebruikers van het Systeem van de Controle van het Ritme Fysieke en de Parasitische Extractie QRC geschikte toegang tot silicium-nauwkeurige controles voor de nanometerprocessen van vandaag, en de procesgeneraties verder,“ bovengenoemde Tom Quan, afgevaardigdedirecteur van de ontwerpdienst marketing in TSMC hebben. De „nieuwe verenigde gegevensformaten maken deel uit van de Open Innovatie Platform™ van TSMC die ontwerpers de capaciteit verstrekt om best-in-klassenEDA hulpmiddelen te selecteren om aan hun ontwerpbehoeften en ontwerpnauwkeurigheid te verbeteren aan eerste keer siliciumsucces tegemoet te komen.“

De „Goedkeuring van nieuw TSMC iDRC en iLVS de formaten van het regeldek vergt de geavanceerde mogelijkheden dichter van het Systeem van de Controle van het Ritme Fysieke aan de bron van de procesgegevens,“ zei Dr. Rachid Salik, ondervoorzitter van onderzoek en ontwikkeling voor de controlegroep bij Ritme. „Deze combinatie zorgt ervoor dat wij nauwkeurige resultaten met een snelle keerpunttijd kunnen leveren. Wij zijn zeker dat het voortdurende versterken van onze verhouding met TSMC echte voordelen, waarde, en keus aan onze wederzijdse klanten.“ zal brengen

De toevoeging van iDRC en iLVS steun in het Systeem van de Controle van het Ritme Fysieke, en iRCX de steun in de extractietechnologie van het Ritme QRC, voorzien volledige integratie van digitaal Ritme en de stromen van het douaneontwerp, en daarom het verstrekken van een voor-aan-rugontwerp en signoff stroom van één enkele verkoper EDA. Het product vergemakkelijkt een „één hulpmiddel, één dek“ model voor digitaal en douaneontwerp dat steunoverheadkosten minimaliseert.

Last Update: 13. January 2012 18:04

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit