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TSMC の iRCX 65nm をサポートするために証明される Lorentz の解決からの PeakView および 40nm 技術

Published on October 1, 2009 at 9:13 AM

TSMC の iRCX 65nm をサポートするために会社の代表的な製品 PeakView が証明されたおよび 40nm 技術設計しますことを Lorentz Solution、高周波 IC のための EM のデザインおよび確認のツールを発達させ、販売するために 2002 年に ounded Inc. は、今日発表されて。

PeakView はプロセス設計キットから得られる物理的な情報に基づいてモデル合成/自動レイアウトの生成、全波 EM のシミュレーションおよびモデル生成を含んでいる調子の Virtuoso™のプラットホーム内の統合された EM ベースのデザインおよび確認の環境です (PDK)。 iRCX のフォーマットは技術のプロセスデータを提供するために便利なアプローチを提供し、各々のプロセス層を渡る金属の位層幾何学および電気特性を保障するために実際の物理構造に基づいて詳しい EM の分析およびモデル生成のために抵抗/キャパシタンス/インダクタンスを修飾しました。 統一された iRCX のフォーマットを使うと、 TSMC の顧客はツールの評価の時間を減らすことができます。

高速 IC のチームによって PeakView が今日最近導入された PDKs で見つけられる限られたスケーラブルライブラリ供物の抑制なしで会合デザイン閉鎖の好戦的策略の方法を配置するのに使用されています。 これは TSMC の顧客は既存の PDK ライブラリ供物を拡大すること、またあらゆる TSMC の進められたプロセスを使用して EM ベースの正確さとバラン/変圧器または送電線のような複雑な装置を作成することの完全な制御があることを可能にします。

「IRCX の修飾プログラムデザイナーが効果的に技術ファイルのセットアップの最小の努力の前もって限定された EM のツールを選ぶことを可能にします」はトム Quan を、言いました次長、 TSMC のデザイン・サービスのマーケティング。 「Lorentz の解決との私達の共同すぐに 1 回目のケイ素の成功を達成するために私達の高度プロセスを使用して製造業対応受動の構造を生成することを可能にします私達の相互顧客が」。は

「PeakView は RF のために開発され、容易に IC デザインに EM デザイン方法を統合する高速アナログデザイナーは受動装置レイアウトの生成、統合および最適化を含んで流れます。 敏感なネットの 「オンザフライ式」アプローチを用いる高速関連の減損の分析を、また関連問題を包むのを助けるように拡大される PeakView のそれ以上」 Jinsong 肇、 Lorentz の解決の CEO を言いました。 「iRCX の修飾および EM の修飾のヘルプのような TSMC プログラム実現します私達の TSMC によって進められるプロセスを使用してアドレスを RF および高速アナログの条件よくするために完全な、ユーザーフレンドリーの統合された EM デザインおよび確認の流れを提供するように会社の創設の視野を」。は

Last Update: 13. January 2012 13:25

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