Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Прикладные Материалы Расширяют Систему Оси 55KV PVD AKT- для того чтобы Включить Предварительный Медный Обрабатывать Низложения

Published on October 27, 2009 at 8:57 PM

Прикладной Материалы, Inc. сегодня объявило что он расширил свою систему прорыва AKT- PiVot™ 55KV PVD* для того чтобы включить предварительное медное низложение обрабатывая для изготовлять плоские экраны TFT-LCD* (FPD). Используя систему Оси, изготовления FPD консервируют переход от алюминия к медным линиям шины для того чтобы достигнуть более быстрой реакции пиксела и понизить расхода энергии в панелях следующего поколени LCD-TV. Система Оси поставляет отметку уровня, эффективное стоимостью медное проведение низложения путем совмещать высокие тарифы низложения, эффективное использование цели и длинние интервалы обслуживания с увеличенным словотолкованием фильма.

Прикладные Материалы расширяют возможности своей системы AKT-Оси PVD прорыва для того чтобы включить предварительный медный обрабатывать низложения. (Фото: Провод Дела)

Ключ к качеству фильма системы Оси главному своя собственническая роторная конструкция катода которая использует уникально технологию модуляции низложения для того чтобы депозировать медные слои с равномерным распределением зерна, низкой резистивностью и высоким единообразием толщины. Система Оси также позволяет использование цели больш чем 80% обеспечить значительно сбережения в дорогем материале цели.

«Путем предусмотрение бесподобных свойств фильма и эффективного использования сырья, наша система AKT-Оси отвечает критическим потребностям сегодняшнего рынка LCD TV который управляется требованием для более больших и ультравысоких панелей определения и требует, что рационализаторства в технологии низложения поставляют высокомарочные фильмы на низком цен--владении,» сказала Др. Маркировать Pinto, старший вице-президент и генеральный директор групп Дисплея, и Энергии и Относящих К Окружающей Среде Applied's Разрешений. «Урожайность и собственнический медный технологический прочесс Системы доказанная создают мощное добавление к нашему сильному портфолио разрешений FPD.»

Зодчество системы Оси модульное позволяет большое разнообразие конфигураций увеличить эффективность продукции, исключая bottlenecks причиненные к различные отростчатые времена в различных модулях в традиционной встроенной машине. Система Оси групп-как расположение также позволяет работе в непрерывном режиме во время обслуживания индивидуального модуля. Совмещено с длинними интервалами обслуживания и расширенной жизнью цели, система Оси обеспечивает самое высокое наличие и самое длиннее время непрерывного производства в индустрии.

Технология низложения системы AKT-Оси 55KV PVD главная медная будет showcased на будочка Прикладных Материалах' на Приборе 2009 FPD Международном и Зеленом в Иокогаме, Японии, 28-ого-30 октября как часть портфолио Applied's предварительных разрешений изготавливания FPD. Эти разрешения включают PECVD*, PVD для TFT-блока и цветного поглотителя, технологии испытания блока луча электронов, автоматизацию фабрики и обслуживание. В добавлении, Прикладные Материалы покажут свои зеленые технологии изготавливания прибора, включая солнечное, низкое-e стеклянное низложение покрытия и крен-к-крена для гибкого PV* и дисплея.

Прикладной Материалы, Inc. (NASDAQ: AMAT) глобальный руководитель в разрешениях Nanomanufacturing Technology™ с обширным портфолио новаторского оборудования, обслуживания и продуктов программного обеспечения для изготовления обломоков полупроводника, плоских экранов, солнечных фотогальванических элементов, гибкой электроники и энергии

эффективное стекло. На Прикладных Материалах, мы прикладываем Технологию Nanomanufacturing для того чтобы улучшить людей путя в реальном маштабе времени. Выучьте больше на www.appliedmaterials.com.

* TFT-LCD = дисплей жидкостного кристалла транзистора тонкого фильма; PVD = физическое низложение пара; PECVD = плазм-увеличило низложение химического пара; PV = фотовольтайческо

Last Update: 13. January 2012 14:57

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit