Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Beneq Anuncia Comercialmente Disponibilidad de la Primera Herramienta de la Investigación para la Deposición Atómica de la Capa de la Lista-a-Lista

Published on November 5, 2009 at 1:46 AM

Beneq anuncia la herramienta Atómica disponible en el comercio, el TFS (ALD) 200R de la investigación de la Deposición de la Capa del primer modo contínuo. Se ha diseñado para el revelado de proceso relacionado con la Lista-a-Lista ALD. En TFS 200R, el substrato flexible es fijo en un cilindro. El cilindro es rodeado por varias boquillas, cada uno que crea cierta zona del gas. Mientras Que se gira el cilindro, el substrato pasa con diversas zonas del gas y después está recubierto. Esta herramienta es muy útil para la investigación básica del proceso contínuo del modo ALD y es una necesidad para todos los que estén considerando usando ALD en una alta producción de la Lista-a-Lista de la producción. La Lista-a-Lista ALD ha detectado recientemente mucho interés, especialmente como método de depositar las barreras de alta calidad de la humedad para la electrónica flexible.

El primer TFS 200R fue entregado recientemente al Laboratorio Superficial Avanzado de la Tecnología (Astral) en la Universidad Tecnológica de Lappeenranta (LUT) en Finlandia, en donde sirve como herramienta de la investigación estudiar las soluciones nanotechnological de la capa para la industria de papel. Profesor David Cameron, LUT, dice “El de alto nivel de la adaptabilidad en la configuración de esta nueva herramienta permitirá que exploremos los problemas de tramitación inherentes en desarrollar un proceso de la lista-a-lista.” Sampo Ahonen, CEO de Beneq, continúa, “Nuestra nueva herramienta de la investigación de ALD acelerará el revelado de las aplicaciones en grandes cantidades de la Lista-a-Lista ALD de la producción para la electrónica flexible y la industria de papel, y ésta pavimentará la manera para las soluciones y el equipo industriales de la Lista-a-Lista ALD de la alta producción.”

La meta del trabajo de investigación en Astral con la nueva herramienta de TFS 200R es la integración de la Deposición Atómica de la Capa en aplicaciones de la industria de papel, en cooperación con el papel y las compañías de empaquetado Stora Enso y UPM Raflatac y la compañía Savcor de la capa. El trabajo es utilizado por la UE vía TEKES, la Dependencia Finlandesa del Financiamiento para la Tecnología y la Innovación.

Para la información adicional, haga contacto con por favor:
Sr. Sampo Ahonen, CEO, Beneq Oy
M: + 358 40 520 1090,
www.beneq.com

Beneq Oy, basado en Vantaa, Finlandia, es un surtidor del equipo industrial y de la tecnología para los mercados globales. Beneq está girando innovaciones en éxito proporcionando a las aplicaciones funcionales activadas nanotecnología de la capa para los campos del cleantech y de la energía renovable, especialmente en cristal, photovoltaics, y mercados emergentes de las películas finas. Las soluciones de Beneq se basan en la Deposición Atómica de la Capa (ALD) y tecnologías atmosféricas propietarias de la capa del aerosol del nHALO® y del nAEROTM.

Last Update: 13. January 2012 12:15

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit