Beneq 商业上宣布第一个研究工具的可用性为辊对辊基本层证言的

Published on November 5, 2009 at 1:46 AM

Beneq 宣布商业可用第一个持续模式基本层 (ALD)证言研究的工具, TFS 200R。 它为工艺过程开发设计与辊对辊 ALD 有关。 在 TFS 200R,灵活的基体是固定的在磁道。 磁道由一定数量的喷管,创建某一气体区域的中的每一包围。 当磁道被转动,这个基体穿过不同的气体区域和然后被涂上。 此工具为持续模式 ALD 进程的基础研究是非常有用的并且是使用在一个高处理量辊对辊生产的 ALD 考虑的那些的当务之急。 辊对辊 ALD 最近获取了很多利息,特别是作为方法存款灵活的电子的优质湿气障碍。

首先 TFS 200R 最近被传送了到先进的表面技术实验室 (星) Lappeenranta 科技大学的 (LUT) 在芬兰,它担当研究工具学习这个纸产业的 nanotechnological 涂层解决方法。 大卫・卡梅伦, LUT 教授,说 “高级在此新工具的配置的灵活性将允许我们测试处理问题内在开发辊对辊进程”。 Sampo Ahonen, Beneq 的 CEO,继续, “我们新的 ALD 研究工具将加速大容积生产辊对辊 ALD 申请的发展对灵活的电子和这个纸产业的,并且这将铺平道路高处理量行业辊对辊 ALD 解决方法和设备的”。

研究工作的目标在星的与新的 TFS 200R 工具是基本层证言的综合化到纸产业应用,在与本文和包装公司 Stora-Enso 和 UPM Raflatac 和涂层公司 Savcor 合作下。 欧盟通过 TEKES,技术芬兰资助署和创新支持这个工作。

对于附加信息, 请与联系:
Sampo Ahonen, CEO, Beneq Oy 先生
M : + 358 40 520 1090,
www.beneq.com

Beneq Oy,根据在万塔,芬兰,是工业设备和技术的供应商世界市场的。 Beneq 把创新变成成功通过提供纳米技术被启用的功能涂层应用为 cleantech 和可再造能源域,特别是在玻璃、 photovoltaics 和涌现的薄膜市场上。 Beneq 的解决方法在基本层证言和 (ALD)所有权大气 nHALO® 和 nAEROTM 湿剂涂层技术基础上。

Last Update: 13. January 2012 09:00

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