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Beneq宣布商業輥輥原子層沉積的第一個研究工具的可用性

Published on November 5, 2009 at 1:46 AM

Beneq宣布連續模式下的第一個原子層沉積(ALD)的研究工具市售,TFS的200R。它被設計為卷對卷ALD的發展過程。在TFS 200R,柔性基板固定在一個圓柱體。圓柱體四周是由多個噴嘴,每個創建一定的氣區。由於氣缸旋轉,基板經過不同的氣體區,然後塗。這個工具是連續模式ALD工藝的基礎研究非常有用,是一個必須為所有那些正在考慮使用ALD的高吞吐量卷對卷生產的。卷對卷ALD的最近收購了很大的興趣,特別是作為一種方法來存款柔性電子產品的高品質的防潮屏障。

第一TFS的200R最近交付先進表面處理技術在拉彭蘭塔科技大學(LUT),在芬蘭,它作為一種研究工具,為造紙行業研究納米技術的塗料解決方案實驗室(ASTRAL)。卡梅倫教授,LUT的,說:“在這一新工具的配置的靈活性高的水平,將使我們能夠探索開發一個卷到卷的過程中固有的處理問題。”聲寶阿霍寧,Beneq首席執行官,繼續說,“我們的新ALD的研究工具將加快發展大批量的生產輥輥柔性電子產品和造紙行業的ALD的應用,這將為工業為高吞吐量的方式卷輥 ALD的解決方案和設備。“

ASTRAL新TFS 200R工具的研究工作的目標是為造紙行業應用原子層沉積的整合,在紙張和包裝公司斯道拉恩索和芬歐藍泰塗料公司聖維可合作。這項工作是由歐盟支持通過 TEKES,芬蘭技術與創新資助機構。

如需詳細資訊,請聯繫:
Beneq Oy公司的首席執行官,聲寶阿霍寧先生
男:+ 358 40 520 1090
www.beneq.com

Beneq Oy公司,總部設在Vantaa,芬蘭,是工業設備和技術為全球市場供應商。 Beneq變成提供的清潔技術和可再生能源領域,特別是在玻璃,光電,和新興市場的薄膜納米技術啟用的功能塗層應用,成功的創新。 Beneq的解決方案是基於原子層沉積(ALD)和專有的大氣 nHALO ®和nAEROTM氣溶膠塗料技術。

Last Update: 3. October 2011 12:31

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