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Gli Strumenti di Heidelberg Riceve l'Ordine dalla Funzione di Scienza e Tecnologia di Cornell NanoScale

Published on November 26, 2009 at 5:05 AM

Gli Strumenti di Heidelberg hanno annunciato la vendita di un sistema maskless della litografia del laser di DWL 2000 avanzato alla Funzione di Scienza e Tecnologia di Cornell NanoScale, situata in Ithaca, New York.

Il sistema 2000 di DWL permetterà all'utente di esporre le sotto strutture del micron su photoresist, con un attivo scrive la superficie di fino a 200 millimetri da 200 millimetri.

“CNF ha una lunga storia di fornitura della maschera interna che fa la capacità agli utenti della funzione ad un costo accessibile. Ciò concede il tempo di ciclo rapido dal concetto al prototipo. CNF recentemente ha installato un DUV (248nm) moderno passo passo che richiede 0,7 funzionalità del µm alla maschera. Gli strumenti correnti rendono la produzione della maschera troppo lenta per soddisfare questa nuova richiesta, creante una barriera economica a usando il sistema di DUV. Il nuovo sistema 2000 di DWL dagli Strumenti di Heidelberg combina il grande campo ad alta velocità di scansione con l'ottica e la precisione di alta risoluzione della fase che recupera la struttura di basso costo per montaggio interno della maschera.„ stati Don Tennant, Direttore delle Operazioni alla Funzione di Scienza e Tecnologia di Cornell NanoScale

Circa la Funzione di Scienza e Tecnologia di Cornell NanoScale: La Funzione di Scienza & della Tecnologia di Cornell NanoScale (CNF) è una funzione nazionale dell'utente che supporta una vasta gamma di progetti di scienza e tecnologia del nanoscale fornendo alle risorse avanzate coppia il supporto degli esperti. 2007 hanno tracciato il suo trentesimo anno in funzione. La Ricerca a CNF comprende le scienze fisiche, l'assistenza tecnica e le scienze biologiche ed ha una forte enfasi interdisciplinare. Oltre 700 utenti all'anno (50% di chi vengono da Cornell esterna) usi il montaggio, la sintesi, il calcolo, la caratterizzazione e le risorse di integrazione di CNF per sviluppare le strutture, le unità ed i sistemi da atomico ai lunghezza-disgaggi complessi.

Circa gli Strumenti di Heidelberg, Gmbh: Con una base dell'impianto dentro oltre 30 paesi, gli Strumenti di Heidelberg è un leader mondiale nella produzione dei sistemi maskless della litografia di alta precisione. Questi sistemi sono utilizzati per produzione del photomask e di scrittura diretta da alcuni delle università e dei leader del settore più prestigiosi nei campi di MEMS, BioMEMS, Tecnologia Nana, ASICS, TFT, Schermi Al Plasma, Micro Ottica e molte altre applicazioni relative.

Last Update: 13. January 2012 11:18

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