Heidelberg Instruments Mottar Bestill fra Cornell nanoskala Science and Technology Facility

Published on November 26, 2009 at 5:05 AM

Heidelberg Instrumenter annonserte salget av et avansert DWL 2000 maskless laser litografi system til Cornell nanoskala Science and Technology Facility, som ligger i Ithaca, New York.

DWL 2000-systemet vil gjøre det mulig for brukeren å avsløre sub micron strukturer på fotoresist, med et aktivt skrive område på inntil 200 mm med 200 mm.

"CNF har en lang historie av å gi in-house maske gjør evnen til anlegget brukere til en rimelig pris. Dette gir rask syklus tid fra idé til prototype. CNF har nylig installert en moderne DUV (248nm) stepper som krever 0,7 mikrometer funksjoner på masken. Den nåværende verktøy gjengi maske produksjonen altfor treg til å møte dette nye kravet, noe som skaper en økonomisk barriere til å bruke DUV systemet. Det nye DWL 2000-system fra Heidelberg Instruments kombinerer store høyhastighets skanning feltet med høy oppløsning, optikk og scene presisjon som gjenoppretter den lave kostnadsstrukturen for in-house maske fabrikasjon. "Sier Don Tennant, Director of Operations ved Cornell nanoskala Science and Technology Facility

Om Cornell nanoskala Science and Technology Facility: The Cornell nanoskala Science & Technology Facility (CNF) er et nasjonalt bruker anlegget som støtter et bredt spekter av nanoskala vitenskap og teknologi prosjekter ved å tilby state-of-the-art ressurser kombinert med ekspert stab støtte. 2007 markerte sitt 30 år i drift. Forskning ved CNF omfatter naturvitenskap, ingeniørfag og biovitenskap, og har et sterkt tverrfaglig fokus. Over 700 brukere per år (50% av disse kommer fra utsiden Cornell) bruker fabrikasjon, syntese, beregning, karakterisering og integrasjon ressurser CNF å bygge strukturer, enheter og systemer fra atom til komplekse lengde-skalaer.

Om Heidelberg Instruments, GmbH: Med en installasjon base i over 30 land, er Heidelberg Instruments verdensledende i produksjon av høy presisjon maskless litografi systemer. Disse systemene brukes for direkte skriving og photomask produksjon av noen av de mest prestisjetunge universitetene og industriledere i de områdene av MEMS, BioMEMS, Nano Technology, ASICS, TFT, plasmaskjermer, Micro Optics, og mange andre relaterte programmer.

Last Update: 23. October 2011 03:18

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit