Picosun は SUNALE ALD プロセスツールの 200 の mm のバッチ生産バージョンを進水させます

Published on November 30, 2009 at 4:31 AM

Picosun Oy は、最新式の原子層の沈殿システムのフィンランドベースの全体的な (ALD)製造業者 SUNALE ALD プロセスツールの非常に賞賛されたデザインの 200 の mm のバッチ生産バージョンを今日進水させました。 新しい SUNALE P200B システムは構成の大きい変化と来、何百もの 1 日あたりのシリコンの薄片まで処理できます。 P200B はまた思いがけない正確さの 3D 目的を処理できます。

「ALD リアクターの SUNALE の系列高度の科学研究で非常に正常であり、 R & D」、は Juhana Kostamo を Picosun の専務理事言います。」私達の生産の顧客これまでに Picosun の P100B の生産リアクターシステムとの優秀な結果を登録しましたが、 P200B の導入は私達が企業に提供してもいい機能を革命化します」は彼が言う。

「ALD の歴史、 Picosun のために今日働いている人々の 30+ 年の間に ALD システムの 15 匹の生成を設計し、作り出しました。 ALD の Picosun の家系は比較を越えて完全にあり、優秀な有用性で示し、私達の製品の信頼性およびそれらを使用して」得られる結果の大変な品質と Kostamo は言います。

1975 年に ALD の方法を発明し、特許を取った人、トゥオモ Suntola 先生は、 Picosun の役員会のメンバーとして役立ち続けます。 全体的にはるかに ALD リアクターのベテランデザイナー、スベン Lindfors 氏は、 Picosun の CTO です。 結合されて、 Picosun の人々は 200 年間の直接 ALD の経験をはるかに越えて所有し、ずっと ALD の科学そして技術の 100 つのパテントに作成で器械です。

「新しい P200B を今日だけ進水させることにもかかわらず、私達に既に何人かの顧客が彼らの高度 ALD の生産の為にそれを」評価することをありますと Juhana Kostamo は言います。

SUNALE ALD プロセスツールは温和で一般的なデザインが研究の結果が生産の使用に回るようにするという事実のために有名です。 通常生産所要を満たすために有望な実験室の結果が変形させているとき、 2 つの層間のすべてに余りに共通の技術のギャップはの遅延を練習しましたりまた更に HVM の生産に単一成功を転送することの成功を防ぎます。 P200B は説得力をこめてこれらの危険をバイパスする Picosun の能力の更に別のデモンストレーションです。

Picosun はマイクロそしてナノテクノロジーアプリケーションのための原子 (ALD)層の沈殿リアクターを発達させ、製造し。 Picosun はフィンランドの ALD リアクター製造業の終わる三十年に継続を表します。 Picosun は生産の Espoo、フィンランド、 Kirkkonummi、フィンランドの R & D および実験室機能で基づき、デトロイト、ミシガン州で米国の本部があります。 SUNALE ALD プロセスツールはヨーロッパ、米国およびアジアを渡るさまざまな大学、研究所および会社にインストールされています。 Picosun Oy はスティーブンの企業株式会社 Oy の部分です。

Last Update: 13. January 2012 09:11

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