Picosun 发行 200 mm SUNALE ALD 进程工具的分批生产版本

Published on November 30, 2009 at 4:31 AM

Picosun Oy,科技目前进步水平基本层证言系统基于芬兰的全球制造商 (ALD)今天发行了 SUNALE ALD 进程工具其高度被称赞的设计的 200 mm 分批生产版本。 新的 SUNALE P200B 系统来以配置一个大种类并且能处理至数百每天的硅片。 P200B 可能也处理 3D 与惊人的准确性的对象。

“ALD 反应器 SUNALE 系列是非常成功的在先进的科学研究,并且 R&D”,总经理说 Juhana Kostamo, Picosun 的。”我们的生产客户至今登记了与 Picosun 的 P100B 生产反应堆系统的非常好的结果,但是 P200B 的简介将改革我们可以为行业提供的功能”他说。

在 30+ 岁月期间 ALD 历史记录, “今天从事为 Picosun 的人们设计了并且引起了 ALD 系统的 15 生成。 在 ALD 的 Picosun 的祖先完全地是在比较之外,并且它在这个优越可用性显示,并且我们的产品的可靠性和使用他们得到的结果的妙极质量”, Kostamo 说。

在 1975年发明并且给予专利 ALD 方法的这个人,图奥莫 Suntola 博士,继续担当理事的成员 Picosun 的。 全球性地显然 ALD 反应器的最有经验的设计员,斯芬 Lindfors 先生,是 Picosun CTO。 结合, Picosun 人拥有远远超出 200 年第一手 ALD 经验和是有助的在生产在 ALD 科学和技术的 100 个专利。

“尽管只今天生成新的 P200B,我们已经有几个客户评估它他们先进的 ALD 生产目的”, Juhana Kostamo 说。

SUNALE ALD 进程工具为这个情况是著名的他们和善的通用设计允许研究的结果把变成生产使用。 通常,当有为的实验室结果被变换符合产品要求时,二块层之间的所有太公用技术空白实践延迟甚至防止在调用单一成功的成功到 HVM 生产。 P200B 是 Picosun 的能力的另外演示令人信服地绕过这些危险。

Picosun 发展并且制造微型和 (ALD)纳米技术应用的基本层证言反应器。 Picosun 表示连续性对超出三十年 ALD 反应器制造在芬兰。 Picosun 在 Espoo、芬兰有生产的, R&D 和实验室设施根据在 Kirkkonummi,芬兰并且有其美国总部在底特律,密执安。 SUNALE ALD 进程工具被安装以多种大学、研究所和公司在欧洲、美国和亚洲。 Picosun Oy 是斯蒂芬行业公司 Oy 的部分。

Last Update: 13. January 2012 06:55

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