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Picosun 發行 200 mm SUNALE ALD 進程工具的分批生產版本

Published on November 30, 2009 at 4:31 AM

Picosun Oy,科技目前進步水平基本層證言系統基於芬蘭的全球製造商 (ALD)今天發行了 SUNALE ALD 進程工具其高度被稱讚的設計的 200 mm 分批生產版本。 新的 SUNALE P200B 系統來以配置一個大種類并且能處理至數百每天的硅片。 P200B 可能也處理 3D 與驚人的準確性的對象。

「ALD 反應器 SUNALE 系列是非常成功的在先進的科學研究,并且 R&D」,總經理說 Juhana Kostamo, Picosun 的。」我們的生產客戶至今登記了與 Picosun 的 P100B 生產反應堆系統的非常好的結果,但是 P200B 的簡介將改革我們可以為行業提供的功能」他說。

在 30+ 歲月期間 ALD 歷史記錄, 「今天從事為 Picosun 的人們設計了并且引起了 ALD 系統的 15 生成。 在 ALD 的 Picosun 的祖先完全地是在比較之外,并且它在這個優越可用性顯示,并且我們的產品的可靠性和使用他們得到的結果的妙極質量」, Kostamo 說。

在 1975年發明并且給予專利 ALD 方法的這個人,圖奧莫 Suntola 博士,繼續擔當理事的成員 Picosun 的。 全球性地顯然 ALD 反應器的最有經驗的設計員,斯芬 Lindfors 先生,是 Picosun CTO。 結合, Picosun 人擁有遠遠超出 200 年第一手 ALD 經驗和是有助的在生產在 ALD 科學和技術的 100 個專利。

「儘管只今天生成新的 P200B,我們已經有幾個客戶評估它他們先進的 ALD 生產目的」, Juhana Kostamo 說。

SUNALE ALD 進程工具為這個情況是著名的他們和善的通用設計允許研究的結果把變成生產使用。 通常,當有為的實驗室結果被變換符合產品要求時,二塊層之間的所有太公用技術空白實踐延遲甚至防止在調用單一成功的成功到 HVM 生產。 P200B 是 Picosun 的能力的另外演示令人信服地繞過這些危險。

Picosun 發展并且製造微型和 (ALD)納米技術應用的基本層證言反應器。 Picosun 表示連續性對超出三十年 ALD 反應器製造在芬蘭。 Picosun 在 Espoo、芬蘭有生產的, R&D 和實驗室設施根據在 Kirkkonummi,芬蘭并且有其美國總部在底特律,密執安。 SUNALE ALD 進程工具被安裝以多種大學、研究所和公司在歐洲、美國和亞洲。 Picosun Oy 是斯蒂芬行業公司 Oy 的部分。

Last Update: 25. January 2012 08:22

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