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Die Erste Abnahme der Industrie und VakuumPumpende Lösung für SteuerungsEmissionen im Halbleiter Toll

Published on November 30, 2009 at 6:13 PM

Applied Materials, Inc., der globale Führer in Lösungen Nanomanufacturing Technology™ mit einem breiten Effektenbestand von innovativen Geräten-, Service- und Software-Produkten für die Fälschung von Halbleiterchips, Flachbildschirmanzeigen, Solarsolarzellen, flexible Elektronik und Energiesparendes Glas, stellten heute seine Angewandte iSYS™ Plattform vor, die erste voll-integrierte Abnahme der Industrie und Vakuumpumpende Lösung für Steuerungsemissionen im tollen Halbleiter. Vernetzt mit einem Angewandten Prozesshilfsmittel, kann die iSYS Anlage typische jährliche Einsparungen im Leistungs-, Wasser- und Gasverbrauch entbinden, der mit 200MWh der Energie oder 220.000 Pound CO2-Emissionen gleichwertig ist, verglichen mit zur Zeit verfügbaren Konfigurationen. Zusätzlich zum Haben des Umweltnutzens, senkt die iSYS Anlage die Dienstkosten für Abnahme und das Vakuum, das auf ein Prozesshilfsmittel durch mehr als 20% pumpt.

Die Angewandte iSYS Plattform ist die erste voll-integrierte pumpende Lösung der Abnahme und des Vakuums der Industrie für Steuerungsemissionen im tollen Halbleiter. (Foto: Business Wire)

Taste zur Fähigkeit der iSYS Plattform, zum von Betriebsmitteln zu konservieren ist sein eindeutiges Kontrollsystem, das mit dem Wafer synchronisiert wird, der Hilfsmittel aufbereitet, Echtzeitänderungen in jeder Prozesskammer ermittlt und Teilsysteme in vorher festgelegt Bereitschaftszustände verweist. Hilfsdosierende Fühler und -software wird in jede iSYS Plattform, um Fernüberwachung des kumulativen Energiesparens zu aktivieren aufgebaut und Fortschritt aufzuspüren, wenn man Energienachhaltigkeitsziele erreicht.

„Mit der Angewendeten iSYS Plattform nützt seine nicht angepasste Gerätenautomatisierung aus und die Prozesshilfsmitteltechnologie, zum einer intelligenten Lösung für abnehmenden Abfall in der Halbleiterherstellung zu erstellen,“ sagte Charlien Pappis, Vizepräsident und Generaldirektor von Angewandten Globalen Dienstleistungen. „, Indem sie Ressourcenverbrauch in Erwiderung auf ändernde Hilfsmittelzustände moduliert, kann die iSYS Plattform unseren Abnehmern niedriger helfen ihre Betriebskosten und dauerhafte Herstellungsmethoden unterstützen.“

Das hoch-kompakte Angewandte iSYS Gerät kann in weniger als einen Tag eingebaut sein und verbraucht 40% weniger Stellfläche als nicht-integrierte Anlagen. Von Anfang an Konstruiert für maximale Leichtigkeit des Instandhaltens, konsolidiert die iSYS Auslegung Hauptteile und beseitigt Redundanz, um die Anzahl von Außenanschlüssen bei der Optimierung von Pflegeergonomie groß zu verringern. Indem sie hellere Bauteile über den schwereren stapeln und Leitungswegewahl optimieren, können Techniker alle Service-Aufgaben, einschließlich Pumpenaustausch, ohne spezielles Gerät schnell beenden.

Die erhebliche Energieeinsparung, die durch die iSYS Plattform erzielt wurde, wurde in Angewandtem hoch entwickeltem Maydan-Technologiezentrum auf einer Angewandten Anlage Producer® GT™ PECVD* unter Verwendung HALB des Verfahrens S23 gemessen. Zuerst gestartet für der CVD-Anlagen der Angewandten Materialien, kann die flexible iSYS Architektur Ätzungsanwendungen auch unterstützen. Zu mehr Information Besuch: http://www.appliedmaterials.com/products/isys_2.html.

* PECVD = Plasma erhöhten CVD

Last Update: 13. January 2012 11:58

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