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La Primera Disminución de la Industria y Solución de Bombeo del Vacío para las Emisiones Que Controlan en el Semiconductor Fabuloso

Published on November 30, 2009 at 6:13 PM

Applied Materials, Inc., el arranque de cinta global en las soluciones de Nanomanufacturing Technology™ con una cartera amplia de los productos innovadores del equipo, del servicio y de software para la fabricación de las virutas del semiconductor, pantallas planas, células fotovoltaicas solares, electrónica flexible y cristal económico de energía, revelaron hoy su plataforma Aplicada del iSYS™, disminución completo-integrada de la industria la primera y la solución de bombeo del vacío para las emisiones que controlaban en el semiconductor fabuloso. Conectado con una herramienta de proceso Aplicada, el sistema del iSYS puede entregar ahorros anuales típicos en el consumo de la potencia, del agua y del gas equivalente a 200MWh de la energía o de 220.000 libras de emisiones de CO2, comparadas a las configuraciones actualmente disponibles. Además de tener ventajas ambientales, el sistema del iSYS baja el costo utilitario para la disminución y el vacío que bombea en una herramienta de proceso por más el de 20%.

La plataforma Aplicada del iSYS es la primera solución de bombeo completo-integrada de la disminución y del vacío de la industria para las emisiones que controlan en el semiconductor fabuloso. (Foto: Business Wire)

El Clave a la capacidad de la plataforma del iSYS para conservar recursos es su sistema de mando único que se sincroniza con el fulminante que tramita la herramienta, detectando cambios en tiempo real en cada compartimiento de proceso y dirigiendo subsistemas en estados a la escucha predefinidos. Los sensores y el software de regulación del Utilitario se incorporan a cada plataforma del iSYS para activar el control remoto de ahorros de la energía acumulativos y para seguir su trayectoria progreso en alcanzar metas de la continuidad de la energía.

“Con la plataforma del iSYS Aplicada está capitalizando en su automatización incomparable del equipo y tecnología de la herramienta del proceso para crear una solución elegante para el desecho de disminución en la fabricación del semiconductor,” dijo a Charlie Pappis, vicepresidente y director general de Servicios Globales Aplicados. “Modulando el consumo del recurso en respuesta a condiciones cambiantes de la herramienta, la plataforma del iSYS puede ayudar a nuestros clientes más bajo sus gastos de explotación y utilizar prácticas de fabricación sostenibles.”

La unidad Aplicada alto-compacta del iSYS se puede instalar en menos de un día y consume el 40% menos espacio que sistemas no-integrados. Diseñado desde el principio para la facilidad máxima del abastecimiento, el diseño del iSYS consolida componentes importantes y elimina redundancia para reducir grandemente el número de conexiones externas mientras que optimiza la ergonomía del mantenimiento. Empilando componentes más pálidos encima los más pesados y optimizando el encaminamiento de la tubería, los técnicos pueden terminar rápidamente todas las tareas del servicio, incluyendo el repuesto de la bomba, sin el equipo especial.

El ahorro de la energía sustancial logrado por la plataforma del iSYS fue medido en el Centro de Tecnología avanzado Aplicado de Maydan en un sistema Aplicado de Producer® GT™ PECVD* usando SEMI la metodología S23. Lanzado Inicialmente para los sistemas del CVD de los Materiales Aplicados, la configuración flexible del iSYS puede también utilizar aplicaciones del grabado de pistas. Para más información, visita: http://www.appliedmaterials.com/products/isys_2.html.

* PECVD = el plasma aumentaron el CVD

Last Update: 13. January 2012 10:10

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