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A Primeira Redução da Indústria e Solução de Bombeamento do Vácuo para Emissões de Controlo no Semicondutor Fabuloso

Published on November 30, 2009 at 6:13 PM

Aplicado Materiais, Inc., líder global em soluções de Nanomanufacturing Technology™ com uma carteira larga de produtos inovativos do equipamento, do serviço e de software para a fabricação de microplaquetas do semicondutor, ecrãs planos, pilhas fotovoltaicos solares, eletrônica flexível e vidro eficiente da energia, revelaram hoje sua plataforma Aplicada do iSYS™, a redução primeiramente completo-integrada da indústria e a solução de bombeamento do vácuo para emissões de controlo no semicondutor fabuloso. Conectado com uma ferramenta Aplicada do processo, o sistema do iSYS pode entregar economias anuais típicas no consumo da potência, da água e do gás equivalente a 200MWh da energia ou das 220.000 libras de emissões de CO2, comparada às configurações actualmente disponíveis. Além do que ter benefícios ambientais, o sistema do iSYS abaixa o custo de serviço público para a redução e o vácuo que bombeia em uma ferramenta do processo por mais de 20%.

A plataforma Aplicada do iSYS é a solução de bombeamento primeiramente completo-integrada da redução e do vácuo da indústria para emissões de controlo no semicondutor fabuloso. (Foto: Business Wire)

A Chave à capacidade da plataforma do iSYS para conservar recursos é seu sistema de controlo original que é sincronizado com a bolacha que processa a ferramenta, detectando o tempo real muda em cada câmara do processo e subsistemas da direcção em estados à espera predefinidos. Os sensores e o software de medida do Serviço Público são construídos em cada plataforma do iSYS para permitir a monitoração remota de economias de energia cumulativas e para seguir o progresso em alcançar alvos da sustentabilidade da energia.

“Com a plataforma do iSYS Aplicada está capitalizando em sua automatização ímpar do equipamento e tecnologia da ferramenta do processo para criar uma solução esperta para o desperdício de diminuição na fabricação do semicondutor,” disse Charlie Pappis, vice-presidente e director geral de Serviços Globais Aplicados. “Modulando o consumo do recurso em resposta às condições em mudança da ferramenta, a plataforma do iSYS pode ajudar nossos clientes mais baixo seus custos de operação e apoiar práticas de fabricação sustentáveis.”

A unidade Aplicada alto-compacta do iSYS pode ser instalada em menos de um dia e consome 40% menos espaço do que sistemas não-integrados. Projetado no início para a facilidade máxima da conservação, o projecto do iSYS consolida componentes principais e elimina a redundância para reduzir extremamente o número de conexões externos ao aperfeiçoar a ergonomia da manutenção. Empilhando uns componentes mais claros acima dos mais pesados e aperfeiçoando o roteamento do canal, os técnicos podem rapidamente terminar todas as tarefas do serviço, incluindo a substituição da bomba, sem equipamento especial.

A economia de energia substancial conseguida pela plataforma do iSYS foi medida em Centro de Tecnologia avançado Aplicado de Maydan em um sistema Aplicado de Producer® GT™ PECVD* usando SEMI a metodologia S23. Lançado Inicialmente para sistemas do CVD dos Materiais Aplicados, a arquitetura flexível do iSYS pode igualmente apoiar aplicações gravura em àgua forte. Para mais informação, visita: http://www.appliedmaterials.com/products/isys_2.html.

* PECVD = o plasma aumentaram o CVD

Last Update: 13. January 2012 10:06

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