行业的第一减少和真空抽的解决方法控制放射的在很好的半导体

Published on November 30, 2009 at 6:13 PM

Applied Materials, Inc.,在 Nanomanufacturing Technology™解决方法的全球领导先锋与创新设备清楚的投资组合,半导体筹码的制造的服务和软件产品,平板显示器,太阳光电池,灵活的电子和省能源的玻璃,今天揭幕其应用的 iSYS™平台、行业的第一充分集成减少和真空抽的解决方法控制放射的在很好这个的半导体。 连网与一个应用的处理工具, iSYS 系统可能提供在功率、水和气体冲减的典型的每年储蓄等同与能源或 220,000 镑 200MWh 二氧化碳排放,与现在可以得到的配置比较。 除有之外环境福利, iSYS 系统降低减少的抽在处理工具的通用费用和真空由超过 20%。

应用的 iSYS 平台是控制放射的行业的第一个充分集成减少和真空抽的解决方法在很好这个的半导体。 (照片: 企业电汇)

保存资源的 iSYS 平台的功能的关键字是与处理工具,感觉在每个处理房间上的实时变化和处理子系统的这个薄酥饼同步到预定义的暂挂状态的其唯一控制系统。 实用程序测量的传感器和软件被编译到每个 iSYS 平台启用渐增节能远距离监控和跟踪在到达能源持续力目标的进展。

“与被应用的 iSYS 平台利用其不匹配设备自动化,并且进程创建越来越少的浪费的一个聪明的解决方法的工具技术在半导体制造中”,总经理说查理 Pappis,副总统和应用的全球服务。 “通过调整以回应更改的工具情况的资源冲减, iSYS 平台可能帮助我们的客户更低他们的运作成本和支持能承受的制造业实践”。

高紧凑应用的 iSYS 部件比非完整的系统可以在少于一天被安装并且消耗 40% 较少地板面积。 从外边设计为最大方便为服务, iSYS 设计统一主要元件并且消灭冗余非常地减少外衔接的数量,当优选维护人体工程学时。 通过堆积在更加大量那些上的更轻的要素和优选输送管运输路线,技术人员能迅速完成所有服务任务,包括泵替换,不用特殊设备。

使用半 S23 方法, iSYS 平台达到的大量的节能被评定了在一个应用的 Producer® GT™ PECVD* 系统的应用的先进的 Maydan 技术中心。 最初生成为应用的材料的 CVD 系统,灵活的 iSYS 结构可能也支持铭刻应用。 对于更多信息,访问: http://www.appliedmaterials.com/products/isys_2.html

* PECVD = 等离子提高了 CVD

Last Update: 13. January 2012 06:55

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