行業的第一減少和真空抽的解決方法控制放射的在很好的半導體

Published on November 30, 2009 at 6:13 PM

Applied Materials, Inc.,在 Nanomanufacturing Technology™解決方法的全球領導先鋒與創新設備清楚的投資組合,半導體籌碼的製造的服務和軟件產品,平板顯示器,太陽光電池,靈活的電子和省能源的玻璃,今天揭幕其應用的 iSYS™平臺、行業的第一充分集成減少和真空抽的解決方法控制放射的在很好這個的半導體。 連網與一個應用的處理工具, iSYS 系統可能提供在功率、水和氣體衝減的典型的每年儲蓄等同與能源或 220,000 鎊 200MWh 二氧化碳排放,與現在可以得到的配置比較。 除有之外環境福利, iSYS 系統降低減少的抽在處理工具的通用費用和真空由超過 20%。

應用的 iSYS 平臺是控制放射的行業的第一個充分集成減少和真空抽的解決方法在很好這個的半導體。 (照片: 企業電匯)

保存資源的 iSYS 平臺的功能的關鍵字是與處理工具,感覺在每個處理房間上的實時變化和處理子系統的這個薄酥餅同步到預定義的暫掛狀態的其唯一控制系統。 實用程序測量的傳感器和軟件被編譯到每個 iSYS 平臺啟用漸增節能遠距離監控和跟蹤在到達能源持續力目標的進展。

「與被應用的 iSYS 平臺利用其不匹配設備自動化,并且進程創建越來越少的浪費的一個聰明的解決方法的工具技術在半導體製造中」,總經理說查理 Pappis,副總統和應用的全球服務。 「通過調整以回應更改的工具情況的資源衝減, iSYS 平臺可能幫助我們的客戶更低他們的運作成本和支持能承受的製造業實踐」。

高緊湊應用的 iSYS 部件比非完整的系統可以在少於一天被安裝并且消耗 40% 較少地板面積。 從外邊設計為最大方便為服務, iSYS 設計統一主要元件并且消滅冗餘非常地減少外銜接的數量,當優選維護人體工程學時。 通過堆積在更加大量那些上的更輕的要素和優選輸送管運輸路線,技術人員能迅速完成所有服務任務,包括泵替換,不用特殊設備。

使用半 S23 方法, iSYS 平臺達到的大量的節能被評定了在一個應用的 Producer® GT™ PECVD* 系統的應用的先進的 Maydan 技術中心。 最初生成為應用的材料的 CVD 系統,靈活的 iSYS 結構可能也支持銘刻應用。 對於更多信息,訪問: http://www.appliedmaterials.com/products/isys_2.html

* PECVD = 等離子提高了 CVD

Last Update: 25. January 2012 09:04

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