Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Поднимать Технологию CMP к Новому Уровню

Published on November 30, 2009 at 6:19 PM

Прикладной Материалы, Inc., глобальный руководитель в разрешениях Nanomanufacturing Technology™ с обширным портфолио новаторского оборудования, обслуживания и продуктов программного обеспечения для изготовления обломоков полупроводника, плоских экранов, солнечных фотогальванических элементов, гибкой электроники и стекла энергии эффективного, сегодня поднятой технологии CMP* к новому уровню пока понижающ цену системы владения (CoO) с стартом своей Прикладной системы Reflexion® GT для предварительных применений CMP металла. Роман системы, конструкция двойн-вафли устанавливает новые отметки уровня в представлении и урожайности CMP, поставляющ главное управление профиля и объём 60% более высокое чем состязаясь системы. Отражение GT также драматически режет цену потребляемых веществ, требуя до 30% меньше slurry и обрабатывая дважды так много вафель в полируя пусковую площадку.

Ключ к системе GT Отражения свое двойное зодчество режима, позволяющ 2 вафли быть обработанным одновременно на каждом platen используя независим-контролируемые головки Контура Титана полируя. (Фото: Провод Дела)

«Сегодняшние мед-основанные приборы логики и памяти имеют больше медных слоев соединения, требующ более быстрый обрабатывать CMP и больше рационального использования потребляемых веществ,» сказал Lakshmanan Karuppiah, генеральный директор организационной единицы CMP Applied's. «Как платформа Producer® GT™ CVD* Applied's высок-успешная, система GT Отражения другая машина мечты для клиентов - совмещать рационализаторства в технологии CMP при двойн-вафля обрабатывая для того чтобы достигнуть представления лучш--породы. В дополнение к своему высокоскоростному объём, это новое зодчество позволяет клиентам осуществить существенные сбережения в цене потребляемых веществ, которая типично состоит из 70% общей стоимости в вафлю.»

Ключ к представлению отметки уровня системы GT Отражения свое двойное зодчество режима, позволяющ 2 вафли быть обработанным одновременно на каждом platen используя независим-контролируемые головки Contour™ Титана полируя. После полировать закончен, параллельн-путь, чистый модуль отличая засыханием пара Marangoni™ Applied's доказанным поставляет высок-эффективное, чистка вафли воды Марк-свободная. Профиль системы собственнические, в реальном масштабе времени и технологии управлением критической точки обеспечивают ведущее в отрасли, единообразие вафл-к-вафли.

Система GT Отражения доступна теперь для медного planarization соединения и демонстрировала extendibility к применениям вольфрама. Эта новаторская система добавляет к декаде Applied's водительства в технологии CMP, с больше чем 2.700 системами на местоположениях клиента всемирно. Для больше информации, посещение http://www.appliedmaterials.com/products/reflexion_gt_cmp_4.html.

*CMP = химическое механически planarization; CVD = низложение химического пара

Last Update: 13. January 2012 12:13

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit