应用的材料引入应用的有利 Astra 毫秒锻炼系统

Published on November 30, 2009 at 6:21 PM

Applied Materials, Inc.,全球领导先锋在 Nanomanufacturing Technology™解决方法与清楚投资组合创新设备,服务和软件产品为制造半导体筹码,平板显示器,太阳光电池,灵活的电子和省能源的玻璃,今天宣布其新的应用的 Vantage® Astra™毫秒锻炼系统,在启用更加快速,低功率冲减设备的晶体管制造的重要突破。 瞄准为创建敏感镍硅化物 (NiSi)晶体管联络层在 45nm 和在逻辑芯片之外,此科技目前进步水平基于激光的系统可能提高激励电流和由数量级使门损失降低,极大帮助客户到增量设备性能和产量。 有利 Astra 的紧缩设计更多比两次提供竞争的系统和所有权的最低的可用的费用薄酥饼输出 (CoO)。

新的应用的有利 Astra 毫秒锻炼系统是在启用更加快速,低功率冲减设备的晶体管制造的重要突破。 (照片: 企业电汇)

“应用的毫秒锻炼技术将使我们顺利地制造我们的客户的最先进的设备设计”,制造企业说博士 Shang 伊城镇,资深副总裁,台湾半导体被限制的 (台湾积体电路制造公司)。 “有利 Astra 系统现在是记录台湾积体电路制造公司的工具为非绝对的焖火在我们的 28nm 逻辑进程中”。

“我们在应用的十年编译领导在帮助我们的客户的单一薄酥饼热量处理解决重要晶体管比例缩放挑战”,总经理说史蒂夫 Ghanayem、总公司副总统和应用的前最后产物营业单位。 “有利 Astra 系统的小说,基于激光的结构规定生产有价值的新的标准并且为先进提供一个强制的值提议锻炼应用”。

有利 Astra 系统的开创性性能的关键字是其新颖的动态表面焖火 (DSA)技术,突然提高这个薄酥饼表面温度局部修改有形资产在这个基本级别的一个创新热量处理方法。 在不到一毫秒内, Astra 系统可能加热这个薄酥饼到从一个低,子200°C 起点的超出 1,000°C。 此唯一功能是重要为了客户能创建最佳质量非绝对的影片没有对这个薄酥饼的任何负面影响。

有利平台可以配置以二 Astra 毫秒锻炼与常规 RTP* RadiancePlus™或 RadOx™房间或一个 Astra 房间结合的房间。 此唯一灵活性允许客户执行所有热量处理步骤 - 毫秒,峰值和浸泡锻炼,正多个 nitridation 和氧化作用应用 - 在同一个生产证明的有利平台。

Last Update: 3. June 2015 11:46

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