am 8. Dezember in Baltimore, bewirtet Maryland, Angewandte Materialien, der globale Führer in Lösungen Nanomanufacturing Technology™ mit einem breiten Effektenbestand von innovativen Geräten-, Service- und Software-Produkten für die Fälschung von Halbleiterchips, von Flachbildschirmanzeigen, von Solarsolarzellen, von flexibler Elektronik und von Energiesparendem Glas., ein wichtiges Symposium, welches die kritischen Fragen erforscht, welche die Fähigkeit der Industrie umgeben, um die Dichte und die Leistung zu entbinden benötigt werden, um die ständig wachsende Nachfrage nach Flash-Speicher-Chips der höheren Kapazität zufriedenzustellen. Kann herkömmliche Schwimmentor Technologie über 22nm hinaus lebensfähig bleiben, oder schließt dreidimensionale Ladung oder nanocrystal Zelltechnologiegewinn heraus ein? Was sehen diese neuen Zellen wie aus und welche neuen Prozesse und Materialien sind erforderlich, sie einzuführen?
Betitelt „Wie Blinkt NAND Schuppe Über 2X hinaus? “, kennzeichnet das Symposium eine anregende Podiumsdiskussion mit führenden Technologen über von der Flash-Speicher-Industrie. Das Panel debattiert die Herausforderungen, die grelle Skalierung gegenüberstellen und teilt ihre Vision von, wie die Industrielandschaft entwickelt, wie wir ein neues Jahrzehnt erreichen.
Panel:
- Yoshio Nishi, Universität von Stanford, Moderator
- Hideaki Aochi - Toshiba Corp.
- Seiichi Aritome - Hynix Semiconductor, Inc.
- Siyoung Choi - Samsung Microelectronics, Ltd.
- Kirche Prall - Micron Technology, Inc.
- Hans-Storch - Angewandte Materialien
Zu mehr Information über dieses aufregende Ereignis, besuchen Sie bitte: http://www.appliedmaterials.com/sub22nm_panel/.