Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

ASML は 28 nm および 22 nm ノード開発を加速するために STMicroelectronics の共同開発のプロジェクトを発表します

Published on December 3, 2009 at 2:11 AM

ASML (NASDAQ: ASML) (アムステルダム: ASML は)、ブリオンの子会社の技術と共に、今日 28 nm ノード配置および 22 nm ノード開発を加速するために (ST) STMicroelectronics の広いscoped 共同開発のプロジェクトを発表しました。

この共同開発のプロジェクト、コードネームをつけられた固体 (石版印刷制御および統合されたデザインのケイ素の印刷の最適化) は、デザインからの製造に模造プロセスを最適化するように、可変性を減らすための新しい訂正/補償の技術を開発するために複雑なチップを製造するための性格描写のツールそして方法を拡張し、副 30 nm ノードで進歩の石版印刷の解決を探索するように努めます。

ST は ASML の FlexRay™最近発表されたプログラム可能な照明器を含む進められた照明ソースと連繋して Tachyon™ SMO ソースマスクの共同最適化を、使用します。 ともに Tachyon SMO および FlexRay は生産に ST の R & D のより速い開発サイクルおよびより速い傾斜路を提供します。 今まで、 ST は正常にブリオンの Tachyon OPC+ の光学近さの訂正を使用し、 LMC の石版印刷の manufacturability は 45 nm 生産をチェックインします。

「ASML の TWINSCAN NXT のスキャンナーのブリオンの計算の解決そして最新の生成を含む石版印刷の製品の統合された組と、結合されるこの共同開発のプロジェクト計算を ST に与え、私達が以下に 28 nm で最適製造業の解決を開発することを可能にするウエファーの石版印刷の技術」、は、 Crolles で、 Joël Hartmann を、 STMicroelectronics のためのケイ素の技術開発フランス言いましたディレクター。 「なおこの ST-ASML の努力は低電力 SoC (チップのシステム) および付加価値アプリケーション特有の技術の開発そして可能になることのまわりでパートナーを集める Crolles 協力的な R & D クラスタの補強です。 これは Nano2012 プログラムの枠内で開発されるプロジェクトの完全な例です。」 (1)

「ASML の長い間の顧客、 ST として高度の半導体を作成するための全体石版印刷方法を開発するため探索し」、優秀なパートナーバート Koek を言いました、上席副社長、 ASML のアプリケーション製品別グループはあります。

Last Update: 13. January 2012 08:30

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit