ASML Anuncia o Projecto de Desenvolvimento Conjunto com STMicroelectronics Para Acelerar 28 nanômetro e Revelação do Nó de 22 nanômetro

Published on December 3, 2009 at 2:11 AM

ASML (NASDAQ: ASML) (Amsterdão: ASML), junto com suas Tecnologias subsidiárias de Brion, anunciou hoje um projecto de desenvolvimento conjunto largo-scoped com STMicroelectronics (ST) para acelerar o desenvolvimento do nó de 28 nanômetro e a revelação do nó de 22 nanômetro.

Este projecto de desenvolvimento conjunto, código-nomeado o SÓLIDO (Optimização da impressão do Silicone com controle da Litografia e Projecto Integrado), procura aperfeiçoar o processo de modelação do projecto à fabricação, estender ferramentas da caracterização e métodos para desenvolver técnicas novas da correcção/compensação para reduzir a variabilidade e explorar soluções da litografia da descoberta para fabricar microplaquetas complexas em nós de sub-30-nm.

O ST funcionará com co-optimização da Source-máscara de Tachyon™ SMO com as fontes avançadas da iluminação de ASML, incluindo o iluminador programável recentemente anunciado de FlexRay™. Junto Tachyon SMO e FlexRay fornecerão uns ciclos de revelação mais rápidos do ST no R&D e uma rampa mais rápida à produção. Até agora, o ST usou com sucesso a correcção óptica da proximidade do Tachyon OPC+ de Brion e o manufacturability da litografia de LMC verifica dentro sua produção de 45 nanômetro.

“Este projecto de desenvolvimento conjunto combinado com a série integrada de ASML de produtos da litografia, incluindo soluções computacionais de Brion e a geração a mais atrasada de varredor de TWINSCAN NXT fornece o ST o computacional e as tecnologias da litografia da bolacha que nos permitirão de desenvolver soluções as melhores da fabricação em 28 nanômetro e abaixo,” disse Joël Hartmann, Director da Revelação de Tecnologia do Silicone para STMicroelectronics, em Crolles, França. “Além Disso este esforço de ST-ASML é um reforço do conjunto cooperativo do R&D de Crolles, que recolhe sócios em torno da revelação e da possibilidade da baixa potência SoC (Sistema na Microplaqueta) e de tecnologias características da aplicação de valor acrescentado. Este é um exemplo perfeito de um projecto desenvolvido no âmbito do programa Nano2012. ” (1)

“Como um cliente velho de ASML, ST é um sócio excelente com quem para explorar e desenvolver métodos holísticos da litografia para criar semicondutores avançados,” disse Bert Koek, vice-presidente superior, grupo de produtos das aplicações em ASML.

Last Update: 13. January 2012 09:20

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