Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Heidelberg-Instrumente Empfängt Wiederholungs-Ordnung für Hoch entwickelte Maskless-Lithographie-Anlage

Published on December 3, 2009 at 4:27 AM

Heidelberg-Instrumente, GmbH, ein führender Lieferant von direktem schreiben die Laser-Lithographieanlagen, angekündigt der Wiederholungsordnung für eine hoch entwickelte maskless Lithographieanlage durch Toyo-Präzisionsteile MFG. Co., Ltd, Japan. Diese Anlage wird für Produktion von den Fotomasken verwendet, die in den getrennten Halbleitern, in den Kodiererplatten, in MEMS, in den Flüssigkristallbildschirmanzeigen, im Electroluminescence und in PDP verwendet werden.

„Toyo-Präzisionsteile MFG. Co., Ltd ist einer der führenden Spieler im Bereich der Fotomaskenproduktion, der Metallradierung und des chemischen Mahlens. Sie haben aktuell mehrfache hoch entwickelte Anlagen von Heidelberg-Instrumenten und wir sind sehr erfreut, denen sie uns beschlossen, um ihre Herstellungsfähigkeiten zu erweitern.“ Zustände Alexander Forozan, Kopf von Globalen Verkäufen und von Wirtschaftlicher Entwicklung

Mit einer Installationsbasis herein über 30 Ländern, ist Heidelberg-Instrumente ein Weltmarktführer in der Produktion von maskless Lithographieanlagen der hohen Präzision. Diese Anlagen werden für Direktschreiben- und Fotomaskenproduktion von einigen der prestigevollsten Universitäten und der Leader des Sektors in den Bereichen von MEMS, von BioMEMS, von Nano-Technologie, von ASICS, von TFT, von Plasmabildschirmen, von MikroOptik und von vielen anderen in Verbindung stehenden Anwendungen verwendet.

Last Update: 13. January 2012 11:58

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit