意法半导体选择了应用材料公司的HKMG技术生产的28nm逻辑器件

Published on December 8, 2009 at 6:02 PM

应用材料公司今天宣布,已选定一家领先的半导体制造商意法半导体(ST),应用材料公司high-k/metal门(HKMG)技术,它的28nm逻辑器件的生产。应用的国家的最先进的HKMG技术将被用于制造的关键晶体管栅极层,ST的下一代片上系统设备,其在法国Crolles的工厂。

HKMG是一项新兴的技术,让摩尔定律的延续,使开关速度更快,同时降低设备的功耗。主要栅介质取代传统的二氧化硅,新的HKMG结构集成了基于铪的高- K与一个新的金属栅电极材料,以增加电容和控制漏电流。

“给我们留下了深刻的印象,非常高兴,在已开发应用的集成high-k/metal门的解决方案,解决我们的28nm器件要求的速度,”乔尔说,哈特曼,在法国Crolles的意法半导体硅技术发展主任。 “我们有信心,通过我们与应用材料公司的继续合作,我们可以快速地将我们的28纳米的HKMG解决方案投入批量生产。”

行业实施HKMG技术的重大挑战,已开发使用新的材料,可以提供最佳的晶体管特性,同时保持完整的介质堆栈制造的过程。应用材料公司开发出一种多步骤的过程,结合其领先的技术,提供一个强大的和可靠的HKMG解决方案ST。欲了解更多信息应用HKMG技术,请访问:www.appliedmaterials.com/products/Highk_MetalGate_4.html。

Ghanayem,应用的前端和金属沉积产品业务部公司副总裁兼总经理史蒂夫说:“这与ST的重要合作表明我们high-k/metal门解决方案可以成功地集成逻辑器件具有优越的性能,”。 “ST的选择我们high-k/metal门过程中是一个强有力的证明,我们所做的工作,值得生产的解决方案,为这一具有挑战性的新的晶体管技术。”

应用材料公司(纳斯达克股票代码:AMAT)是全球领先的纳米技术™解决方案的广泛产品组合的创新设备,服务和软件产品,用于制造半导体芯片,平板显示器,太阳能光伏电池,柔性电子产品和能源高效玻璃。在应用材料公司用纳米制造技术改善人们的生活。

Last Update: 7. October 2011 14:42

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