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意法半導體選擇了應用材料公司的HKMG技術生產的28nm邏輯器件

Published on December 8, 2009 at 6:02 PM

應用材料公司今天宣布,全球領先的半導體製造商意法半導體(ST),選擇它的28nm邏輯器件的生產應用材料公司的high-k/metal門(HKMG)技術。應用的國家的最先進的HKMG技術將被用來製造 ST的下一代片上系統設備,其在法國 Crolles工廠的關鍵晶體管柵極層。

HKMG是一項新興技術,讓摩爾定律的延續,使開關速度更快,同時降低設備的功耗。主柵介質取代傳統的二氧化矽,新的HKMG結構集成與一個新的金屬柵電極的基於鉿的高- k材料,增加電容和控制漏電流。

“給我們留下了深刻的印象,非常高興在應用材料公司開發的集成high-k/metal門的解決方案,解決我們的28nm器件要求的速度,”喬爾說,哈特曼,在法國 Crolles的意法半導體矽技術發展主任。 “我們有信心,通過我們與應用材料公司的繼續合作,我們可以迅速地把我們的28nm的HKMG解決方案投入批量生產。”

重大挑戰行業實施 HKMG技術已經開發使用新的材料,可以提供最佳的晶體管特性,同時保持完整的介質堆棧製造的過程。應用開發了一個多步驟的過程中,結合其領先的技術,提供一個強大的和可靠的HKMG解決方案ST。欲了解更多信息應用 HKMG技術,請訪問:www.appliedmaterials.com/products/Highk_MetalGate_4.html。

“這與 ST的重要合作表明我們 high-k/metal門解決方案可以成功地集成在他們的邏輯器件具有優越的性能,說:”史蒂夫Ghanayem,應用的前端和金屬沉積產品業務部公司副總裁兼總經理。 “ST的選擇我們 high-k/metal門過程是一個強有力的證明,我們所做的工作,為這個充滿挑戰的新晶體管技術生產值得的解決方案。”

應用材料公司(納斯達克股票代碼:AMAT)是全球領先的納米技術™解決方案的廣泛產品組合的創新設備,服務和軟件產品,用於製造半導體芯片,平板顯示器,太陽能光伏電池,柔性電子產品和能源高效玻璃。在應用材料公司用納米製造技術改善人們的生活。

Last Update: 18. October 2011 02:38

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