Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

STMicroelectronics 参加 CEALeti 想象程序开发多个 E 射线石版印刷

Published on January 18, 2010 at 7:28 AM

STMicroelectronics 和 CEALeti,主导的法国半导体研究所,签署了 STMicroelectronics 的协议能连接多个合伙人的程序想象的新的行业/研究,导致由 CEALeti,包括台湾积体电路制造公司,集成电路制造的屏蔽少的石版印刷的。

此三年的程序被认为允许公司估计集成电路制造的 maskless 石版印刷基础设施和对高处理量的 MAPPER* 技术的使用。 多个 e 射线石版印刷程序包括一个全球途径对技术,包括工具鉴定,仿造和处理综合化,数据处理,原型和成本分析。

“STMicroelectronics 为更多比与 CEALeti 的一个十年运作 maskless 石版印刷的。 同时, ST 和 CEALeti 设立了在 ST 的 Crolles 中试线的一个充分的形状射线功能,并且展示 e 射线技术的插入在一个标准 CMOS 流程的”,发展主任说 Joël Hartmann 硅技术 STMicroelectronics 的,在 Crolles,法国。 “连接想象程序是 ST 的一个逻辑步骤能获得对屏蔽少的石版印刷可能解决方案的存取将来的技术节点的”。

“想象程序将受益于严格的知识,并且 STMicroelectronics 技术支持在 maskless 技术”, CEO,劳伦特 Malier 说 Leti 的。 “CEALeti 的经验在 e 射线技术由与 ST 的此合伙企业多年来加强了为使用 e 射线先进技术示威者的。 当 STMicroelectronics 支持想象程序,我们被说服我们将成功做 maskless 石版印刷一个可行的解决方法”。

* 制图员的办公室位于德尔福特,荷兰,在德尔福特大学附近

技术; 制图员大量提供并行电子束平台,并且此设备发运是协作程序的一部分。

Last Update: 13. January 2012 04:09

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit