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Oxford Instruments kündigt Verbesserte End-Pointing Capability auf Plasma Etch und Deposition Werkzeuge

Published on February 16, 2010 at 6:35 AM

Oxford Instruments Plasmatechnik (OIPT) freut sich, verbesserte Ende zeigenden Fähigkeiten auf dem Bereich der Plasma-Ätz-und Ablagerung Tools bekannt, mit der Einführung des CCD1 Spectrometer System. Die CCD1 der Lage ist, sowohl ein Prozess endpointing Fähigkeit und UV / VIS-Spektrum zu erfassen, und ist als Standard-Option für alle neuen Werkzeuge oder als Upgrade-Option für bestehende Oxford Instruments Kunden zur Verfügung.

Dieses Spektrometer bietet eine kostengünstige Weg zu Allzweck endpointing und Spektroskopie, ohne Kompromisse bei der Auflösung oder der Signalstärke.

Die CCD1 ist ein UV / VIS CCD-Spektrometer, das eine Vielzahl von Plasma-Emissionen über Wellenlängen 200nm-880nm überwachen können. Dieses Gerät kann in eine von zwei Arten verwendet werden: Prozess Endpunktdetektion über OIPT ist PC2000 ™-Software, oder ganze Spektrum Anzeige und Aufzeichnung. Dies bietet dem Anwender detaillierte Plasma-Spektroskopie Informationen, die für die Überwachung der Konzentrationen der Spezies im Plasma verwendet werden können. Die Spektren können auch zu früheren spektralen Daten verglichen werden - für System-Überwachung, Fehlererkennung und potentielle Fehlerquellen Klassifizierung.

Jetzt auch als ein System-Option auf neue OIPT etch und Ablagerung Tools kann der CCD1 Spektrometer auch als Upgrade für Systeme im Bereich, abhängig von der System Alter, Art und Konfiguration angeboten werden.

Last Update: 5. October 2011 13:41

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