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Oxford Instruments annuncia migliorata finale capacità di puntamento su Strumenti Plasma Etch e Deposizione

Published on February 16, 2010 at 6:35 AM

Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) è lieta di annunciare una migliore capacità di finale che punta sulla sua gamma di strumenti di plasma etch e deposizione, con l'introduzione del sistema CCD1 Spectrometer. Il CCD1 è in grado di fornire sia una capacità di processo endpointing, e UV / VIS la cattura dello spettro, ed è disponibile come opzione standard su tutti i nuovi strumenti o come opzione di aggiornamento per gli attuali clienti di Oxford Instruments.

Questo spettrometro fornisce una soluzione efficace percorso di endpointing uso generale e la spettroscopia, senza compromettere la risoluzione o la potenza del segnale.

Il CCD1 è un UV / VIS spettrometro CCD in grado di monitorare una vasta gamma di emissioni di plasma nel corso di lunghezze d'onda 200nm-880nm. Questa unità può essere utilizzata in due modi: endpoint processo di rilevamento tramite il software di OIPT PC2000 ™, o la visualizzazione di spettro completo e la registrazione. Questo fornisce all'utente informazioni dettagliate spettroscopia al plasma, che può essere utilizzato per il monitoraggio delle concentrazioni di specie all'interno del plasma. Lo spettro può essere anche rispetto ai precedenti dati spettrali - per il monitoraggio del sistema, rilevamento dei guasti e la classificazione di guasto potenziale.

Ora disponibile come opzione il sistema di strumenti nuovi OIPT etch e deposizione, lo spettrometro CCD1 può anche essere offerto come upgrade per i sistemi in campo, dipende dall'età del sistema, tipo e configurazione.

Last Update: 6. October 2011 00:12

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