Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Аппаратуры Оксфорда Объявляют Улучшено Конц-Указывающ Возможность на Инструментах Etch и Низложения Плазмы

Published on February 16, 2010 at 6:35 AM

Технология Плазмы Аппаратур Оксфорда (OIPT) довольный для того чтобы объявить улучшено конц-указывающ возможность на своем ряде инструментов etch и низложения плазмы, с введением системы Спектрометра CCD1. CCD1 способно захвата обеспечивать и возможность процесса endpointing, и спектра UV/VIS, и доступно как стандартный вариант на всех новых инструментах или как вариант подъема для существуя клиентов Аппаратур Оксфорда.

Этот спектрометр снабубежит рентабельную трассу общецелевые endpointing и спектроскопия, без компрометировать на разрешении или силе сигнала.

CCD1 спектрометр CCD UV/VIS который может контролировать широкий диапазон излучений плазмы над длинами волны 200nm-880nm. Этот блок можно использовать в одном из 2 путей: отростчатое обнаружение критической точки через ПО PC2000™ OIPT, или полные просмотр и запись спектра. Это обеспечивает пользователя с детальными данными по спектроскопии плазмы, могущие понадобиться для контролировать концентрацию видов внутри плазма. Спектры можно также сравнить к предыдущим спектральным данным - для контроля системы, обнаружения неисправностей и классифицирования недостатка потенциала.

Теперь доступно по мере того как вариант системы на новых инструментах etch и низложения OIPT, спектрометр CCD1 может также быть предложен как подъем к системам в поле, зависимом на времени, типе, и конфигурации системы.

Last Update: 13. January 2012 05:56

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit