在 CNSE 的阿尔巴尼 NanoTech 复杂的协作将瞄准屏蔽缺陷在 22 毫微米以下

Published on February 18, 2010 at 8:53 AM

SEMATECHNanoscale 科学和工程的 (CNSE) 阿尔巴尼 NanoTech 复杂学院生成全球财团开发为检测缺陷的重要计量学工具在为极其紫外石版印刷需要的先进的屏蔽 (EUVL) - 满足行业需要认为太昂贵为了各自的公司能独立地开发。

新的 EUVL 屏蔽基础设施 (EMI)合伙企业从六个半导体行业实体得出了强烈兴趣。 附加成员为财团被寻找,将继续处理一个雄心勃勃的计量学程序在 2013年之前启用大容积制造的无瑕疵的 EUVL 屏蔽。

“EUV 屏蔽 defectivity 是这个唯一最巨大的挑战对 EUV 准备,但是查找缺陷要求不存在的计量学工具”,说约翰 Warlaumont,先进技术 SEMATECH 的副总统。 “这些工具及时不会是可用的没有干预,并且这个行业同意 SEMATECH 是一起来这个解决方法的安排和合作伙伴”。

EMI 合伙企业是开放的对屏蔽和芯片制造商、屏蔽空白供应商、其他财团和地区政府。 它将由 SEMATECH 的石版印刷程序管理,根据在 UAlbany NanoCollege。

“先进的计量学解决方法的发展对加速使用至关重要 nanoelectronics 设备制造的 EUV 石版印刷”, CNSE 说理查 Brilla,方法、联盟和财团副总裁。 “再次,在 SEMATECH 和 UAlbany NanoCollege 之间的合伙企业利用 CNSE 基础设施并且驱动将支持我们的总公司合作伙伴和 nanoelectronics 行业的需要的创新研究”。

光学制版是不太可能能仿造在 22 毫微米技术生成之外的筹码,并且 EUVL,与波长 13.5 毫微米,广泛只被认为光学制版的最佳的替换。 为子22 nm 仿造使用的 EUV 屏蔽一定免于实际上缺陷避免调用他们在基片电路上 -,但是当前计量学工具一般是无效的在查找缺陷在 32 毫微米以下。

EMI 合伙企业将通过资助三个计量学工具的发展在阶段之内解决此计量学空白。 第一个工作成绩将着重启用一个改进的 EUV 屏蔽空白检验功能在 2011年之前,在 2013年跟随由一个空中想象计量学系统 (AIMS™) 的发展 EUV 的和终于能 EUV 掩模图案检验的工具从事在 16 毫微米在 2015年旁边。 导致这些工具还原预计花费估计 $200 百万或更。

自 2003年以来,半导体行业排列了在其名列前茅三个技术问题中的无瑕疵的 EUV 屏蔽,并且 SEMATECH 导致技术程序驱动缺陷减少。 应这个行业请求, SEMATECH 从一次特殊讨论会开始寻求必需的计量学基础设施的一个 consortial 解决方法在 SEMICON 西部在 2009年 7月,继续与工作组开发建议和工作成绩报名参加最初成员。 前进, SEMATECH 将实现在 EMI 合作伙伴中的建立共识,提供关键的数据和论坛为到达的决定性的协议。

Last Update: 3. June 2015 11:46

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