SEMATECH联盟已推出一个全球财团在纳米科学和工程公司（CNSE）奥尔巴尼纳米技术复杂学院发展极端紫外线光刻技术（EUVL）所需的先进的口罩上的缺陷检测的关键计量工具-灌装需要太个别公司的昂贵的行业独立发展。
新的极紫外光刻面具基础设施（EMI）的伙伴关系已引起浓厚的兴趣，从六个半导体产业实体。其他成员正在寻求财团，将实行一项雄心勃勃的计量程序，使2013年的大批量制造无缺陷的极紫外光刻面具。
，SEMATECH的先进技术的副总裁约翰说Warlaumont：“”EUV掩模缺陷的一个最大的挑战，EUV技术准备，但找到需要的缺陷尚不存在的计量工具，。 “这些工具将无法及时提供不加干预，业界同意，SEMATECH联盟的地方走到一起，合作伙伴的解决方案。”
EMI的伙伴关系是开放的面具和芯片制造商，光罩供应商，其他财团和区域政府。这将是SEMATECH的光刻计划管理，在UAlbany NanoCollege。
“先进计量解决方案的发展是至关重要的加速EUV光刻技术的纳米电子器件的制造的使用，说：”理查德Brilla，CNSE副总裁战略联盟和财团。 “再次，SEMATECH联盟的UAlbany NanoCollege之间的伙伴关系是利用CNSE的基础设施和推动创新的研究，这将支持我们的企业合作伙伴和纳米电子行业的需求。”
光学光刻技术是不太可能能模式芯片，超越了22纳米技术的产生，和极紫外光刻，波长仅为13.5纳米，被广泛认为是最佳替代光学光刻。 EUV技术用于亚22纳米图案的口罩必须几乎无缺陷，以避免他们转移到芯片电路 - ，但目前的计量工具一般都在寻找低于32纳米的缺陷无效。
EMI伙伴关系将解决这三个计量工具的发展拨款，分阶段计量的差距。一是努力将集中在2011年启用增强的EUV掩模空白检测能力，空中成像测量系统的发展（AIMS™）于2013年的EUV，和最后一条EUV掩模图形的检测工具，能够在16纳米到2015年的工作。这些工具制造原型预计将耗资估计达200万以上。
自2003年以来，半导体产业已位居前三名的技术问题，无缺陷的EUV口罩，SEMATECH联盟，导致了技术方案，以推动减少缺陷。在业界的要求，SEMATECH联盟所需的计量基础设施的一个专题研讨会在SEMICON West 2009年7月开始推行一个consortial的解决方案，工作组继续发展的建议和努力签署初始成员。展望未来，SEMATECH联盟将有利于EMI的合作伙伴之间建立共识，提供关键数据和讨论论坛达成决定性的协议。