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在 CNSE 的阿爾巴尼 NanoTech 複雜的協作將瞄準屏蔽缺陷在 22 毫微米以下

Published on February 18, 2010 at 8:53 AM

SEMATECH 在 Nanoscale 科學和工程的 (CNSE) 阿爾巴尼 NanoTech 複雜學院生成全球財團開發為檢測缺陷的重要計量學工具在為極其紫外石版印刷需要的先進的屏蔽 (EUVL) - 滿足行業需要認為太昂貴為了各自的公司能獨立地開發。

新的 EUVL 屏蔽基礎設施 (EMI)合夥企業從六個半導體行業實體得出了強烈興趣。 附加成員為財團被尋找,將繼續處理一個雄心勃勃的計量學程序在 2013年之前啟用大容積製造的無瑕疵的 EUVL 屏蔽。

「EUV 屏蔽 defectivity 是這個唯一最巨大的挑戰對 EUV 準備,但是查找缺陷要求不存在的計量學工具」,說約翰 Warlaumont,先進技術 SEMATECH 的副總統。 「這些工具及時不會是可用的沒有干預,并且這個行業同意 SEMATECH 是一起來這個解決方法的安排和合作夥伴」。

EMI 合夥企業是開放的對屏蔽和芯片製造商、屏蔽空白供應商、其他財團和地區政府。 它將由 SEMATECH 的石版印刷程序管理,根據在 UAlbany NanoCollege。

「先進的計量學解決方法的發展對加速使用至關重要 nanoelectronics 設備製造的 EUV 石版印刷」, CNSE 說理查 Brilla,方法、聯盟和財團副總裁。 「再次,在 SEMATECH 和 UAlbany NanoCollege 之間的合夥企業利用 CNSE 基礎設施并且驅動將支持我們的總公司合作夥伴和 nanoelectronics 行業的需要的創新研究」。

光學制版是不太可能能仿造在 22 毫微米技術生成之外的籌碼,并且 EUVL,與波長 13.5 毫微米,廣泛只被認為光學制版的最佳的替換。 為子22 nm 仿造使用的 EUV 屏蔽一定免於實際上缺陷避免調用他們在基片電路上 -,但是當前計量學工具一般是無效的在查找缺陷在 32 毫微米以下。

EMI 合夥企業將通過資助三個計量學工具的發展在階段之內解決此計量學空白。 第一個工作成績將著重啟用一個改進的 EUV 屏蔽空白檢驗功能在 2011年之前,在 2013年跟隨由一個空中想像計量學系統 (AIMS™) 的發展 EUV 的和終於能 EUV 掩模圖案檢驗的工具從事在 16 毫微米在 2015年旁邊。 導致這些工具還原預計花費估計 $200 百萬或更。

自 2003年以來,半導體行業排列了在其名列前茅三個技術問題中的無瑕疵的 EUV 屏蔽,并且 SEMATECH 導致技術程序驅動缺陷減少。 應這個行業請求, SEMATECH 從一次特殊討論會開始尋求必需的計量學基礎設施的一個 consortial 解決方法在 SEMICON 西部在 2009年 7月,繼續與工作組開發建議和工作成績報名參加最初成員。 前進, SEMATECH 將實現在 EMI 合作夥伴中的建立共識,提供關鍵的數據和論壇為到達的決定性的協議。

Last Update: 25. January 2012 13:56

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