Oggi KLA-Tencor Corporation (NASDAQ: KLAC), il fornitore principale del mondo di controllo dei processi e le soluzioni della gestione del rendimento per il semiconduttore e le industrie relative, hanno introdotto l'ultima generazione di loro strumento virtuale della litografia di PROLITH.
PROLITH X3.1 permette ai ricercatori ai chipmaker avanzati, ai consorzi ed ai creatori della strumentazione a rapidamente ed in modo redditizio elimina l'errore sulle emissioni provocatorie in EUV e nei doppi trattamenti di modello (DPL) della litografia, compreso la riga la rugosità della barriera (LER) ed emissioni di modello connesse con la topografia del wafer. Facendo Uso di PROLITH X3.1 i lithographers possono migliorare la loro ricerca, conservare le risorse apprezzate delle cellule della litografia ed accelerare lo sviluppo di prodotto.
“I Ricercatori affrontano un compito enorme complesso nella valutazione delle tecnologie multiple della litografia per il 2Xnm e sotto i vertici di progettazione,„ Ed Charrier, vice presidente e direttore generale specificato di Divisione di Informazioni del Controllo dei Processi di KLA-Tencor. “Devono capire come il reticolo stampato sul wafer è influenzato dalle interazioni di trattamento-progettazione, compreso gli effetti delle progettazioni della maschera, impostazioni dello scanner, la topografia del wafer e le variazioni dentro resistono alla composizione. La fisica di primo principio di usi di PROLITH X3.1 per aiutare i ricercatori a studiare ed ottimizzare i trattamenti avanzati della litografia simulando il modello risulta piuttosto che i wafer della prova di stampa. Versione X3.1 risultati accurati dei prodotti dei nuovi modelli di LER e di EUV appena in alcuni minuti - permettendo di diminuire drammaticamente tempo di sviluppo di prodotto. Inoltre, questa strategia può fare diminuire la quantità di scanner, di pista e tempo di strumento di CD-SEM deviato agli esperimenti correnti di possibilità, liberanti la cella di EUV per integrazione e la prova o la cella della litografia ottica per le esecuzioni di produzione supplementari.„
PROLITH X3.1 comprende parecchie funzionalità destinate per permettere che i ricercatori studino in modo redditizio le tecnologie differenti della litografia:
-- Il primo modello stocastico disponibile nel commercio in cui cattura
spiega il comportamento di quantum di indicatore luminoso e del reattivo discreto
molecole nella resistenza, ricercatori d'aiuto:
-- Esattamente modello LER con un tempo di esecuzione di alcuni minuti, facente lo
pratico per studiare l'impatto di varie circostanze trattate su LER
in un favoloso reale;
-- Studi la ripetibilità di stampa del reticolo e studi l'impatto sopra
rendimento;
-- Predica la riga e contatti l'uniformità del CD del foro;
-- Determini la finestra trattata utilizzabile; e
-- Esamini quanto differente resista all'influenza dei livelli di caricamento del reattivo
stampando (per esempio, finestre trattate, controllo del CD, livelli di difetto),
concedendo i produttori materiali esplorare resistono alle formulazioni a
costo significativamente diminuito;
-- Il primo modello disponibile nel commercio del fotoelettrone che simula
il risultato dei trattamenti di litografia di EUV;
-- La topografia Intuitiva del wafer ha installato e migliorato i modelli della topografia del wafer
quello tiene conto la valutazione veloce e facile di doppio e singolo modello
pile non planari di litografia ed unità non planari di prossima generazione
come FinFETs;
-- Il Database oltre di alta precisione 60, calibrato resiste ai modelli, disponibili
per uso immediato;
-- Interfaccia Intuitiva che funziona su un PC di 32 bit, capace di fornitura
la litografia veloce e accurata modella senza l'esigenza del computer
aggiornamenti o supercomputer; e
-- Disponibile come aggiornamento alla piattaforma leader del settore di PROLITH,
fornitura del extendibility per proteggere il capitale esistente dei ricercatori
investimenti.
PROLITH X3.1 è il più recente negli strumenti completi di KLA-Tencor che indirizzano le sfide avanzate della litografia.
Sorgente: http://www.kla-tencor.com/