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Posted in | Nanobusiness

PicosunはALD専門家の任命を発表

Published on February 22, 2010 at 1:16 AM

Picosunはオイ 、最先端の原子層堆積(ALD)システムのフィンランドベースのグローバルメーカーは、本日、ALDの専門家に任命されたグループを導入しました。

"これは市場に明確な信号である:PicosunはALD固有の薄膜の先駆者としての利点に追加され、"Juhana Kostamo、Picosunのマネージングディレクターは述べています。 "Picosunは、パイプラインに新しい、非常に興味深いのALDアプリケーションプロジェクトの多くを持っていますそしてそれはでなければなりません。。。フィンランドには、すでにこれらの最新の新入社員の前に、ALD Picosunの先祖代々の家であり、世界のどの企業よりも組み合わせALD経験を持っている。"

博士魏ミンLiは(1967年生まれ)、半導体、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサー、フラットパネルディスプレイの広い応用範囲の薄膜材料、プロセス及び設備の経験15年以上あり、太陽光発電産業。彼は、プロセス/アプリケーション管理、販売およびマーケティング、製品プラットフォームの開発とプロジェクト管理で複数の管理職を歴任してきました。のPicosunで、彼は産業用アプリケーションに重点を置いたアプリケーションマネージャの位置を保持しています。彼はPicosunのアジアの販売活動でも活躍しています。 2000年から彼の博士論文のタイトルは"SRS系青色薄膜エレクトロルミネッセンス蛍光体の特性評価と修正"を開催しました。

博士サトゥEkマクロの博士(Tech.)論文(2004)"原子層堆積法による多孔質シリカのアミノ官能化表面の制御された成膜"タイトルを運んだ。 EUのプロジェクトを担当、プロジェクトマネージャとしてのPicosunに入社する前に、彼女は(1972年生まれ)フィンランドベースのハイテク企業のためのアプリケーションの科学者として働いている。

博士テロササナPilviは(1976年生まれ)Picosunのセールスマネージャー、ヨーロッパの位置を保持しています。テロササナPilviの背景には、研究者としてのヘルシンキの大学で無機化学の研究室となります。彼の博士論文(2009)は"光学応用のための原子層堆積法:金属フッ化物薄膜と新デバイス"と題された。

興味深いことに、博士はPilviもプロフットボール(サッカー)選手のようなバックグラウンドを持っています。 1998年から2001年の間、彼はフィンランド、スウェーデン、スコットランドとイングランドでプレー。彼の最も最近のプロ契約は、ケンブリッジ、英国のFCケンブリッジユナイテッド(イングランドサッカーリーグの時第2師団で)とあった。

氏ユハPihlmanもPicosunの新しい財務マネージャーとして雇われた。

Picosunは、マイクロおよびナノテクノロジーのアプリケーションのために原子層堆積(ALD)原子炉を開発製造しています。 Picosunは、フィンランドの製造のALDの原子炉30年間に継続性を表しています。 Picosunフィンランド、エスポー基づいており、デトロイト、ミシガン州に本部を持っている同社の米国。 SUNALE ALDプロセスツールは、欧州、米国、アジアの様々な大学、研究機関や企業に設置されています。

博士トゥオモSuntola、ALD技術の発明者は、Picosunの取締役会のメンバーです。世界で最も経験豊富なALD反応設計して、SvenリンドフォースはPicosunの最高技術責任者と会社の創設者です。のPicosun Oyはスティーブン産業株式会社Oyの一部です。

Last Update: 10. October 2011 12:06

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