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Posted in | Nanofabrication

ASML公司提供TWINSCAN NXE:3100 EUV光刻系统台积电

Published on February 22, 2010 at 1:45 AM

商ASML Holding NV(ASML)今天宣布,台湾半导体制造公司(代号:2330,NYSE:TSM)将提供一个TWINSCAN NXE:3100极端紫外线(EUV)光刻系统。这个工具代表六NXE:3100 EUV技术ASML公司的全球合作伙伴和客户的系统之一。

台积电预计将首个专门的代工厂商进行现场EUV技术的发展,将新系统上安装的晶圆厂12 GigaFab™将来在技术节点的发展。

EUV技术采用波长更短的和有潜力,以减少目前用于拉伸193纳米沉浸式光刻技术相关的成本,使其成为一个有前途的光刻制造IC为未来的先进技术节点的技术。台积电正在评估其潜在的EUV和其他光刻技术,在未来的技术节点,以优化成本效益的生产。

“台积电将使用TWINSCAN NXE:3100为未来的先进技术节点的研究和发展,台积电的研究和开发的高级副总裁,博士说:”尚毅蒋。 “EUV是下一代光刻技术,我们正在调查之一,这个系统与我们保持先进的技术领先地位的客观工作。与此同时,该协议巩固了我们的历史性承诺投资创新的欧洲半导体界通过ASML和其他人,将在未来发挥我们的工艺技术开发的举足轻重的作用。“

“一个NXE:3100台积电,ASML的EUV技术系统的行业芯片的所有主要分部:逻辑,DRAM和NAND快闪记忆体,和铸造,”说马丁面包车巢穴布林克,ASML公司的执行副总裁和首席产品及技术人员。 “我们期待着继续我们与台积电的长期合作关系,为他们提供最先进的技术,为明天的芯片。”

来源: http://www.tsmc.com/

Last Update: 17. October 2011 17:55

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