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Posted in | Nanofabrication

ASML公司提供TWINSCAN NXE:3100 EUV光刻系統台積電

Published on February 22, 2010 at 1:45 AM

商ASML Holding NV(ASML)今天宣布,台灣半導體製造公司(代號:2330,NYSE:TSM)將提供一個 TWINSCAN NXE:3100極端紫外線(EUV)光刻系統。這個工具代表六NXE:3100 EUV技術 ASML公司的全球合作夥伴和客戶的系統之一。

台積電預計將首個專門的代工廠商進行現場 EUV技術的發展,將新系統上安裝的晶圓廠 12 GigaFab™將來在技術節點的發展。

EUV技術採用波長更短的和有潛力,以減少目前用於拉伸193納米沉浸式光刻技術相關的成本,使其成為一個有前途的光刻製造 IC為未來的先進技術節點的技術。台積電正在評估其潛在的EUV和其他光刻技術,在未來的技術節點,以優化成本效益的生產。

“台積電將使用TWINSCAN NXE:未來的先進技術節點的研究和發展 3100,台積電的研究和開發的高級副總裁,博士說:”尚毅蔣。 “EUV是下一代光刻技術,我們正在調查之一,這個系統與我們保持先進的技術領先地位的客觀工作。與此同時,該協議鞏固了我們的歷史性承諾投資創新的歐洲半導體界通過 ASML和其他人,將在未來發揮我們的工藝技術開發的舉足輕重的作用。“

“一個 NXE:3100台積電,ASML的EUV技術系統的行業芯片的所有主要分部:邏輯,DRAM和NAND快閃記憶體,和鑄造,”說馬丁麵包車巢穴布林克,ASML公司的執行副總裁和首席產品及技術人員。 “我們期待著繼續我們與台積電的長期合作關係,為他們提供最先進的技術,為明天的芯片。”

來源: http://www.tsmc.com/

Last Update: 14. October 2011 09:01

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