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Applied Materials accueillera un séminaire sur les technologies de lithographie Rentable

Published on February 23, 2010 at 4:54 AM

Les techniques actuelles de lithographie optique pour dispositifs semi-conducteurs patterning sont rapidement atteindre leurs limites. Alors que la lithographie par immersion en double patterning semble être extensible à 19nm pour les dispositifs de mémoire flash et éventuellement à 15nm conçoit la logique, la lithographie EUV est considérée comme le successeur le plus probable.

Cependant, il est vital que la lithographie EUV et de ses processus de production sont liés prêt pour cette transition majeure - capable d'atteindre des niveaux acceptables de la productivité et le rendement. Le 24 Février, Applied Materials sera l'hôte d'un séminaire en profondeur pour explorer les techniques qui seront nécessaires pour l'évolutivité économique avancé.

Intitulée "High-Technologies de productivité pour la lithographie de nouvelle génération", le forum réunira des experts tirés de la logique et les fabricants de fonderie, les consortiums de recherche et le secteur de l'équipement. Pendant une journée complète de présentations techniques à l'Hôtel Sainte-Claire à San Jose, en Californie, les intervenants présenteront les dernières avancées dans le masque et les motifs de plaquettes, d'inspection et de métrologie qui sont l'amélioration de la précision de processus et de productivité.

Intervenants: Chas Archie - Physicien principal, IBM
Ben Bunday - Membre senior de l'équipe technique, SEMATECH
Jo Finders - Fellow, ASML
Ted Liang - Ingénieur cadres supérieurs, Intel
Hans Stork - Chief Technology Officer de la Silicon Systems Group, Applied Materials

Obert Bois - Membre principal du personnel technique, GLOBALFOUNDRIES

Où: Hôtel Sainte-Claire,
Marché 302 S Street, San Jose, CA 95113

Quand: Le mercredi 24 Février, 2010

Horaire: 9h00-9: 30am inscription
09h30-4: 30pm programme du séminaire
16h30-6: 30pm réception

Source: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 4. October 2011 00:01

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