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Posted in | Nanofabrication

Esfuerzo conjunto de los socios desde hace mucho tiempo para desarrollar Resiste para el procesamiento EUVL

Published on February 23, 2010 at 6:11 PM

Tokyo Electron Limited (TEL) y SEMATECH ha anunciado hoy que ha unido al programa TEL SEMATECH litografía en el Colegio de Nanotecnología e Ingeniería (CNSE) de la Universidad de Albany.

El equipo TEL trabajará junto a los ingenieros SEMATECH en Albany CNSE Complejo NanoTech para avanzar en la litografía ultravioleta extrema (EUVL) y la correspondiente infraestructura - incluyendo la reducción de la máscara de defecto, la metrología máscara, la fuente, se resisten a procesar, grabar y capacidad de fabricación global y la extensibilidad de la tecnología.

A medida que la industria se prepara para comenzar las operaciones de línea EUVL piloto dentro de un año, los retos pendientes en el EUV procesamiento deben ser abordados, incluyendo la rugosidad de anchura de línea (LWR) la reducción, la uniformidad de LWR en obleas, la reducción de división entre los LWR resistir el procesamiento y el grabado, así como patrón de colapso. TEL y SEMATECH una posición única para cooperar en esas áreas y liderando la industria para permitir a la línea de pilotaje listo para resistir el procesamiento.

"Estamos muy contentos por esta oportunidad de unirse experiencia TEL de ingeniería con R SEMATECH + D de las capacidades y conocimientos para el desarrollo de vanguardia capacidad de litografía EUV para nuestros clientes de semiconductores", dijo Masayuki Tomoyasu, Vicepresidente Senior de TEL Technology Center, America, LLC. "Estamos ansiosos de trabajar con SEMATECH para cumplir con los requisitos técnicos y económicos de la tecnología EUV y avance de la industria hacia adelante".

"Estamos construyendo en nuestra larga relación con TEL, que también está participando en nuestros Procesos Front End y los programas de 3D Interconexión," dijo John Warlaumont, vicepresidente de tecnología de avanzada en SEMATECH. "Estamos encantados de unir fuerzas en nuestro programa de litografía, así, a medida que trabajamos juntos con TEL en el avance tecnológico EUVL y acelerar su progreso de manufactura de alto volumen."

"Estamos encantados de dar la bienvenida a esta nueva alianza entre SEMATECH y TEL, los cuales se encuentran entre los líderes tecnológicos del mundo que participan en la próxima generación de investigación nanoelectrónica y el desarrollo en la Universidad de Albany NanoCollege", dijo Richard Brilla, vicepresidente de estrategia, alianzas y consorcios en la CNSE. "Esta nueva colaboración permitirá que la investigación avanzada para la litografía EUV para apoyar las necesidades críticas de la industria, mientras que lo que demuestra el éxito de la asociación SEMATECH-CNSE en la aceleración de las tecnologías más avanzadas."

A través de un liderazgo mundial y la colaboración del Programa de SEMATECH litografía pretende impulsar las soluciones basadas en el consenso y el desarrollo de infraestructuras para que puedan, costo-efectiva la litografía está disponible cuando sea necesario para las empresas miembros y la industria de los semiconductores.

Last Update: 9. October 2011 02:57

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