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Posted in | Nanoelectronics

新应用的材料的生成预洗子32nm 逻辑装置的房间

Published on March 30, 2010 at 2:40 AM

Applied Materials, Inc. 今天宣布是可用的在其领先市场的应用的 Centura® RP Epi 系统的半导体行业的第一集成的低温为外延 (epi) 应用预洗。

应用介绍半导体行业的第一集成的低温为对其应用的 Centura RP Epi 系统的 epi 申请预洗。

新预洗房间,以应用的证明的 Siconi™技术为特色,提供为称敏感,张力设计的功能需要的重要处理性能在子32nm 逻辑装置。 另外,因为预洗和 epi 进程是集成在同一个真空平台,消灭队列时间,并且界面的污秽被更多比数量级减少在独立系统的,创建无瑕疵的 epi 晶体成长的原始硅表面。

常规请预洗技术要求 800°C 跟随的一湿干净烘烤。 在先进的 32nm,而高温烘烤可能极大减弱现有的张力级别,和在设备下,积极湿干净可能腐蚀电路结构。 相反, Siconi 技术的给予专利的基于等离子的清洗的化学比 130°C 提供在较少的柔和,高效,氧化物删除,维护的最佳的张力和保留精美功能。

“在 epi 证言适用建立了其长年的领导通过持续扩大与新的技术,创新功能”,总经理说史蒂夫 Ghanayem,副总统和应用的前最后产物营业单位。 “直到现在,前进芯片制造商无法充分地认识到多个 epi 层提供的晶体管速度收益。 集成 Siconi 预洗解决此问题,使客户派生张力工程的充分的福利制造的他们的高性能设备”。

设计为节能,集成 Siconi 进程极大减少电和用水量。 通过消灭需要对于高温请烘烤, Siconi 预洗可能每年保存能源或 40,000 镑超出 36,000kWh 等同二氧化碳排放。

集成 Siconi 预洗技术由芯片制造商热心地接受了并且是在使用中的在多个设备制造商全世界。 Centura RP Epi 系统产品安装信息库可以升级与 Siconi 技术通过一个有效升级程序包。

来源: http://www.appliedmaterials.com

Last Update: 12. January 2012 07:56

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