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Posted in | Nanoelectronics

新應用的材料的生成預洗子32nm 邏輯裝置的房間

Published on March 30, 2010 at 2:40 AM

Applied Materials, Inc. 今天宣佈是可用的在其領先市場的應用的 Centura® RP Epi 系統的半導體行業的第一集成的低溫為外延 (epi) 應用預洗。

應用介紹半導體行業的第一集成的低溫為對其應用的 Centura RP Epi 系統的 epi 申請預洗。

新預洗房間,以應用的證明的 Siconi™技術為特色,提供為稱敏感,張力設計的功能需要的重要處理性能在子32nm 邏輯裝置。 另外,因為預洗和 epi 進程是集成在同一個真空平臺,消滅隊列時間,并且界面的汙穢被更多比數量級減少在獨立系統的,創建無瑕疵的 epi 晶體成長的原始硅表面。

常規请預洗技術要求 800°C 跟隨的一濕乾淨烘烤。 在先進的 32nm,而高溫烘烤可能極大減弱現有的張力級別,和在設備下,積極濕乾淨可能腐蝕電路結構。 相反, Siconi 技術的給予專利的基於等離子的清洗的化學比 130°C 提供在較少的柔和,高效,氧化物刪除,維護的最佳的張力和保留精美功能。

「在 epi 證言適用建立了其長年的領導通過持續擴大與新的技術,創新功能」,總經理說史蒂夫 Ghanayem,副總統和應用的前最後產物營業單位。 「直到現在,前進芯片製造商無法充分地認識到多個 epi 層提供的晶體管速度收益。 集成 Siconi 預洗解決此問題,使客戶派生張力工程的充分的福利製造的他們的高性能設備」。

設計為節能,集成 Siconi 進程極大減少電和用水量。 通過消滅需要對於高溫请烘烤, Siconi 預洗可能每年保存能源或 40,000 鎊超出 36,000kWh 等同二氧化碳排放。

集成 Siconi 預洗技術由芯片製造商熱心地接受了并且是在使用中的在多個設備製造商全世界。 Centura RP Epi 系統產品安裝信息庫可以升級與 Siconi 技術通過一個有效升級程序包。

來源: http://www.appliedmaterials.com

Last Update: 25. January 2012 17:17

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