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WeltBestellt größte Halbleiter-Gießerei Endlosschleifen-Masken-Reparatur Carl Zeisss und Überprüfungs-Lösung für Knotenpunkt 32nm

Published on March 30, 2010 at 3:16 AM

Die Weltgrößte Halbleitergießerei von Taiwan hat einen kombinierten Auftrag für die Masken-Defekt-Reparatur-Anlage MeRiT® STUNDE 32 und die LuftBild-Maß-Anlage AIMS™ 32-193i von Carl Zeiss vergeben, um sich für die Produktion von Spitzenphotomasken der nächsten Generation vorzubereiten.

ZIELE 32-193i und Übertragungsgüte STUNDE 32 aktivieren die Produktion von Nulldefekt Fotomasken am Knotenpunkt 32nm und jenseits.

„Wie eine der höchstentwickelten Gießereien, die unser Abnehmer strategisch investieren muss, um Fotomaskenproduktion des nulldefektes für die bevorstehenden 32 und die Knotenpunkte 22nm sicherzustellen. Für die Einleitung der folgenden Technologieknotenpunkte sind die neue Generation von ZIELEN und die Übertragungsgüteanlagen die wesentlichen Bauteile, zum der Herstellung der hochwertigen Fotomasken mit Nulldefekten sicherzustellen.“ erklärt Dr. Oliver Kienzle, Direktor von SMS-Abteilung von Carl Zeiss SMT.

letztes Jahr startete Carl Zeiss die Maskenqualifikations- und -reparaturanlagen für den Knotenpunkt 32nm. „ZIELE und Übertragungsgüte sind im Markt als Regellösung für fehlerfreie Masken, besonders am Knotenpunkt 65nm und 45nm gut eingerichtet. Dank die enge Zusammenarbeit mit Schlüsselabnehmern könnten wir weitere neue Technologie entwickeln, um starke Anlagen der nächsten Generation zu berechnen.“ Kienzle fährt fort. Er markiert, dass Abnehmer besonders den völlig flexiblen Beleuchtungsentwurf der ZIELE 32-193i und des neuen Hochstabilität Plattformkonzeptes der Anlage Übertragungsgüte STUNDE 32 schätzen, die zu den zukünftigen Technologien einschließlich EUV dehnbar ist.

Die Eträger basierte Maskenreparatur-Anlage Übertragungsgüte HR32 setzt zwei Strategien parallel ein, um die Nachfragen 32 nm der Lithographie zu befriedigen. Die erforderliche Reparaturqualität im Hinblick auf Auflösungs- und Platzierungsgenauigkeit wird durch eine neue Eträger Plattform adressiert, die eine aktiv gesteuerte Miniumgebung umfaßt. Dieses Merkmal liefert eine hohe Stufe der thermischen und mechanischen Stabilität. Der erhöhte Eträger Prozess, der durch ein flexibles, Hochfähigkeit Prozessgasversorgungsanlage unterstützt wird, verbessert Ätzungsstabilität und Minimumreparaturgröße. Außerdem aktiviert er die neuen und schwierigen Maskentechnologien wie die OMOG-artige und EUV-Masken. Die Übertragungsgütetechnologie baut eine Regellösung zusammen mit AIMS™ für Defektreparatur und Reparaturüberprüfung auf. Die neuen ZIELE 32-193i aktiviert genaue Emulation von Techniken der Lithographie 32nm wie Doppelter Kopierender Technologie, QuellMasken-Optimierung und ComputerLithographie.

Basiert auf der breiten Sachkenntnis von Carl Zeiss mit Scanner-Objektivtechnologien stellt die Anlage Scanner ähnliche Darstellungsleistung durch die neue LITO®-Gradoptik sicher. Eine hoch entwickelte Beleuchtungsanlage erlaubt die Emulation aller Arten Einstellungen der Beleuchtung 193nm. Zum ersten Mal im ZIEL-Geschichtswechselgetriebe im Beleuchtungsschüler ist- jetzt mit ZIELEN 32-193i erhältlich.

Last Update: 13. January 2012 01:29

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